*均質(zhì)分散乳化機(jī)性能特點(diǎn)

　粘彈劑*研磨混合均質(zhì)分散機(jī)，注射劑，指的是藥物制成的供注入體內(nèi)的無(wú)菌溶液（包括乳濁液和混懸液）以及供臨用前配成溶液或混懸液的無(wú)菌粉末或濃溶液。注射劑作用迅速可靠，不受ph、酶、食物等影響，無(wú)首過(guò)效應(yīng)，可發(fā)揮全身或局部定位作用，適用于不宜口服藥物和不能口服的病人。更多詳情請(qǐng)致電上海依肯銷售工程師 徐工 1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3，公司設(shè)有專門實(shí)驗(yàn)室可以免費(fèi)為客戶提供設(shè)備購(gòu)買前的驗(yàn)證測(cè)試。

　　注射劑按注射部位可分為皮內(nèi)注射劑，皮下注射劑，肌肉注射劑，靜脈注射劑，脊椎腔注射劑幾類；按劑型分有液體注射劑，注射用粉劑，注射用片劑幾種。

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*均質(zhì)分散乳化機(jī)使用說(shuō)明

注射劑制備:主要有原料配備和輔料配制兩部分，原料配制主要為中藥提取物，首先必須對(duì)原料進(jìn)行預(yù)處理，挑選——洗滌——切制——干燥——粉碎——滅菌；其中上海依肯高剪切膠體磨CM2000系列非常適合注射劑原料粉碎，9000rpm高轉(zhuǎn)速，23mps線速度，0.2mm磨頭間隙帶來(lái)的強(qiáng)大剪切力，被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過(guò)定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。管線式結(jié)構(gòu)，全程*，衛(wèi)生達(dá)到醫(yī)藥級(jí)無(wú)菌效果。物料顆粒***終可達(dá)納米級(jí)，且分布范圍非常窄，是注射劑原料制備粉碎設(shè)備的*。

　IKN膠體磨與國(guó)內(nèi)膠體磨的性能比較:

　　一、轉(zhuǎn)速和剪切速率:

　　IKN膠體磨，可選擇德國(guó)機(jī)械密封，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)

　　F=23/0.7X1000=32857 S-1

　　F=40/0.7/X1000=57142 S-1

　　通過(guò)轉(zhuǎn)速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

　　二、膠體磨頭和間距:

　　IKN膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實(shí)現(xiàn)多種功能，如三級(jí)乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。

　　間距可調(diào)，可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工

　　國(guó)內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差

　　三、機(jī)械密封:

　　IKN膠體磨，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至***低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)

　　國(guó)內(nèi)膠體磨，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀

　　四、清洗:

　　IKN膠體磨，立式，皮帶驅(qū)動(dòng)，易于維護(hù)，可有效保護(hù)馬達(dá)及齒輪箱，防止損壞,符合流體流動(dòng)原理，具有CIP/SIP在線清洗，在線殺菌功能，無(wú)需拆卸，機(jī)器設(shè)計(jì)*，立式結(jié)構(gòu)符合流體原理，清洗更簡(jiǎn)便

　　國(guó)內(nèi)膠體磨，臥式或立式（馬達(dá)一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護(hù)保養(yǎng)復(fù)雜，

　　通常情況，需要拆卸機(jī)器進(jìn)行清洗

　　高剪切膠體磨運(yùn)行原理:

　　高剪切膠體磨在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū)，通過(guò)一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過(guò)道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對(duì)高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動(dòng)和離心力的作用下，將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎。精磨區(qū)分三級(jí)，越向外延伸一級(jí)磨片精度越高，齒距越小，線速度越長(zhǎng)，物料越磨越細(xì)，同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級(jí)流體的方向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬(wàn)次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過(guò)三個(gè)精磨區(qū)的上千萬(wàn)次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的***小細(xì)度可達(dá)0.5um。

 CM2000/4中試型膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4中試型膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。 CM2000/4中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    公司另外一項(xiàng)*的創(chuàng)新，就是錐體磨CMO2000系列，它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。 研磨頭的表面涂上了一層極其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個(gè)具有強(qiáng)烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。

它們的主要區(qū)別

CM2000/4（LP系列）為實(shí)驗(yàn)室膠體磨的技術(shù)參數(shù)：功率1.5-2.2KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時(shí)（水），重量35KG,尺寸 (長(zhǎng)寬高）(450X250X350)MM，LP使用軸封（PTFE 環(huán)），在正常的情況下，一般軸封可以使用3000-4000次。LP不能24小時(shí)連續(xù)使用，一般多可以使用連續(xù)半個(gè)小時(shí)，這要依據(jù)料液的溫度和轉(zhuǎn)速而定。LP也可以通過(guò)變換模塊，可以實(shí)現(xiàn)多功能多用途。是實(shí)驗(yàn)室生產(chǎn)的選擇。

  CM2000/4（PP系列）為中試型膠體磨的技術(shù)參數(shù)：功率2.2-4KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s，電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時(shí)（水），重量45KG, 尺寸 (長(zhǎng)寬高）((450X250X350)MM，PP使用雙機(jī)械密封，可24小時(shí)不停機(jī)連續(xù)生產(chǎn)，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻。通過(guò)變換模塊，可以實(shí)現(xiàn)多功能多用途。此款中試型膠體磨比普通的膠體磨的速度達(dá)到4-5倍以上，研磨效果非常好，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。機(jī)械密封和機(jī)械設(shè)計(jì)符合3A健康標(biāo)準(zhǔn)，是中試和小批量生產(chǎn)的選擇。

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