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主要用途： 本產(chǎn)品主要用于FPD玻璃基片或玻璃及硬脆材料的單面高精度、高效率的拋光。 結(jié)構(gòu)特點 1、 拋光盤、拋光頭的驅(qū)動電機(jī)采用的變頻調(diào)速器，可實現(xiàn)緩啟動、緩?fù)＼嚮?/span>定點停車； 2、 拋光盤采用交叉滾子軸承支撐，具有剛性穩(wěn)定，高可靠性；在高轉(zhuǎn)速下仍能確保精確。 3、 拋光液從拋光頭兩側(cè)由拋光液泵循環(huán)加注，滿足拋光的工藝要求； 4、 壓力采用氣動三段加壓（負(fù)壓、自重、正壓）； 5、 采用特殊進(jìn)口的氣缸實現(xiàn)自動加壓； 6、 拋光盤由減速電機(jī)驅(qū)動，其運(yùn)行速度可通過操作面板上的旋扭進(jìn)行無級調(diào)節(jié)； 7、 拋光頭的搖動采用平行滑動裝置，剛性高，穩(wěn)定性好，壓力均勻。搖動速度可通過操作面板上的旋扭進(jìn)行無級調(diào)節(jié)； 8、 拋光頭的升降、翻轉(zhuǎn)采用氣壓驅(qū)動，保證了運(yùn)轉(zhuǎn)的平穩(wěn)性和操作的安全性； 9、 控制系統(tǒng)采用PLC控制，可根據(jù)用戶要求設(shè)定運(yùn)行程序，實現(xiàn)動態(tài)接觸啟動、停車； 10 由于采用了日本EVATECH公司的設(shè)計，該機(jī)器工作時可實現(xiàn)高效低耗，且故障發(fā)生少。 主要技術(shù)參數(shù) 1、 拋光盤直徑： Φ1200mm 10拋光盤電機(jī)：Y132S-4 11KW 1500rpm 2、 拋光頭直徑： Φ950mm 11、搖動電機(jī)： YEJ802-4 1.5KW 1500rpm 3、 拋光頭移動幅度： ±350m m 12、拋光液泵： AB200 450W 200L/min 4、 拋光盤相對拋光頭的偏心量：50～300mm 13、攪拌電機(jī)： 5IK90GU 100rpm 5、 拋光盤轉(zhuǎn)速： 20～50rpm 14、電源（三相五線制）：AC380Ｖ 6、 拋光頭搖動速度： 0～100mm/s 15、氣源：0.5-0.65Mpa 1000L/min 7、 拋光頭升降行程： 185mm 16、外形尺寸：3120X 2050X2319 8、 拋光頭翻轉(zhuǎn)角度： 77.5° 17、質(zhì)量：約5000Kg 9、 拋光工件的厚度： 0.3～1.1mm 精度指標(biāo) 拋光盤的平面度 0.005—0.025mm 拋光頭的平面度 0—0.01mm |
深圳市大精研磨技術(shù)有限公司，是一家專業(yè)從事各種高精密研磨設(shè)備、拋光設(shè)備及其配套產(chǎn)品和消耗材料的*。本公司集結(jié)研發(fā)設(shè)計、生產(chǎn)制造、銷售和售后服務(wù)于一體，其產(chǎn)品廣泛適用于光學(xué)、航空、汽車、模具、藍(lán)寶石加工及各種五金行業(yè)?？蛻羧罕榧叭珖鞯睾蜌W、美、曰等地區(qū)。其代表有華為、中電集團(tuán)；美國蘋果、曰本大新、松下；德國博土；中國臺灣富士康等眾多中外企業(yè). 經(jīng)過多年的努力和發(fā)展，本公司已凝聚了一批高級技術(shù)人員和管理人員，具有很強(qiáng)的技術(shù)實力和競爭力。此外還成功研發(fā)了多項研磨新技術(shù)新工藝，設(shè)計、制造了多種糸列的研磨、拋光設(shè)備。這些技術(shù)和設(shè)備有相當(dāng)部分*了國內(nèi)研磨行業(yè)的空白，有的己達(dá)*水平，得到了廣大客戶的好評，歡迎各界客戶朋友、考察、洽談。 經(jīng)營項目： 制造銷售設(shè)備類：平面研磨機(jī).平面拋光機(jī).雙面研磨機(jī).雙面拋光機(jī).鏡面拋光機(jī)，橫向研磨機(jī)，不銹鋼拋光機(jī)，陶瓷拋光機(jī)等機(jī)器 來料加工類：五金零件.光學(xué)晶體材料等產(chǎn)品的平面研磨拋光加工 消耗品類： 1：單晶體金剛石研磨液.多晶體金剛石研磨液.拋光液.拋光布，潤滑油 2：合成鐵盤.合成銅盤.錫盤.純錫盤. 各種進(jìn)口研磨盤等。
平面研磨機(jī)
大型玻璃拋光機(jī) 產(chǎn)品信息
