低溫立式爐主主要應(yīng)用于:半導(dǎo)體高精度低溫?zé)崽幚砉に?。針?duì)于熱處理中溫度低且精度高的工藝環(huán)節(jié)。
技術(shù)參數(shù)
工藝溫度范圍 | 100--300℃ |
恒溫區(qū)長(zhǎng)度 | 250mm(可定制) |
恒溫區(qū)內(nèi)單點(diǎn)溫度穩(wěn)定性 | ≤±0.5℃ |
恒溫區(qū)內(nèi)單點(diǎn)溫度重復(fù)性 | ≤±0.5℃ |
升溫時(shí)間 | ≤20min |
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低溫立式爐主主要應(yīng)用于:半導(dǎo)體高精度低溫?zé)崽幚砉に?。針?duì)于熱處理中溫度低且精度高的工藝環(huán)節(jié)。
技術(shù)參數(shù)
工藝溫度范圍 | 100--300℃ |
恒溫區(qū)長(zhǎng)度 | 250mm(可定制) |
恒溫區(qū)內(nèi)單點(diǎn)溫度穩(wěn)定性 | ≤±0.5℃ |
恒溫區(qū)內(nèi)單點(diǎn)溫度重復(fù)性 | ≤±0.5℃ |
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