高真空退火爐

高真空退火爐/高溫介電設備原理：

1. 輻射加熱

紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

2. 紅外線燈

紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。

3. 反射光

反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。

高真空退火爐/高溫介電設備特點

1. 高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體可配置水冷，增設氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。

2. 溫度高的精度控制

通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

3. 清潔加熱

反射鏡是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

高真空退火爐加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

設備結構：

反射爐溫度控制裝置：

高速升溫時，配套的快速反應的控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設計，響應速度快。

可選配置：

（1）干栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

（2）全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口，真空測量范圍5X10^-7Pa到1atm;

（3）為了高速加熱、設備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發(fā)技術保證試驗溫度；

（4）根據(jù)設備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)；

（5）自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；

（6）可設定32個程序、256個步驟的程序；

（7）30A、60A、120A內置了 SCR電路，所以范圍很廣。

更多應用：

樣品腔內徑：≥30mm；      退火爐外徑：≤100mm