工業(yè)高純水設(shè)備生產(chǎn)廠家

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   高純水的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)中所規(guī)定的各項指標(biāo)的主要依據(jù)有：1.微電子工藝對水質(zhì)的要求；2.制水工藝的水平；3.檢測技術(shù)的現(xiàn)狀。
    在高純凈水設(shè)備的生產(chǎn)過程中，水中的陰、陽離子可用電滲析法、反滲透法及離子交換樹脂技術(shù)等去除；水中的顆粒一般可用超過濾、膜過濾等技術(shù)去除；水中的細(xì)菌，目前國內(nèi)多采用jiayao或紫外線燈照射或臭氧shajun的方法去除；水中的TOC則一般用活性炭、反滲透處理。在高純水應(yīng)用的領(lǐng)域中，水的純度直接關(guān)系到器件的性能、可靠性、閾值電壓，導(dǎo)致低擊穿，產(chǎn)生缺陷，還影響材料的少子壽命，因此高純水要求具有相當(dāng)高的純度和精度。

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  天然水中溶解的氣體主要有O2、、CO2、SO2和少量的CH4、氡氣等，在高純水的生產(chǎn)過程中，還必需去除這類的氣體。為了有效的去除雜質(zhì)，在 生產(chǎn)高純水的過程中，加入了一些化學(xué)shajun劑，如甲醛、雙氧水、次氯酸鈉等。這些都是為什么高純水不能作為飲用水的原因之一。從學(xué)術(shù)角度講，純水又名高純 水，是指化學(xué)純度ji高的水，其主要應(yīng)用在生物、化學(xué)化工、冶金、宇航、電力等領(lǐng)域，但其對水質(zhì)純度要求相當(dāng)高，所以一般應(yīng)用**的還是電子工業(yè)。例如電 力系統(tǒng)所用的純水，要求各雜質(zhì)含量低達到“微克/升”級。在純水的制作中，水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的各項指標(biāo)應(yīng)該根據(jù)電子(微電子)元器件(或材料)的生產(chǎn)工藝而 定(如普遍認(rèn)為造成電路性能破壞的顆粒物質(zhì)的尺寸為其線寬的1/5-1/10)，但由于微電子技術(shù)的復(fù)雜性和影響產(chǎn)品質(zhì)量的因素繁多，至今尚無一份由工藝 試驗得到的適用于某種電路生產(chǎn)的完整的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。不過近年來電子級水標(biāo)準(zhǔn)也在不斷地修訂，而且高純水分析領(lǐng)域的許多突破和發(fā)展，新的儀器和新分析方法的不斷應(yīng)用都為制水工藝的發(fā)展創(chuàng)造了條件。