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      EDI高純水設(shè)備

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      更新時(shí)間:2020-10-14 19:24:12瀏覽次數(shù):291次

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      一、EDI高純水設(shè)備說(shuō)明:

       EDI也是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來(lái)克服電滲析極化而脫鹽不干凈,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H和OH離子實(shí)現(xiàn)樹(shù)脂自再生來(lái)克服樹(shù)脂失效后通過(guò)化學(xué)藥劑再生的缺陷,是20世紀(jì)80年代以來(lái)逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過(guò)十幾年的發(fā)展,EDI技術(shù)已經(jīng)在北美及歐洲占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場(chǎng)。
       EDI裝置包括陰/陽(yáng)離子交換膜、離子交換樹(shù)脂、直流電源等設(shè)備。其中陰離子交換膜只允許陰離子透過(guò),不允許陽(yáng)離子通過(guò),而陽(yáng)離子交換膜只允許陽(yáng)離子透過(guò),不允許陰離子通過(guò)。離子交換樹(shù)脂充夾在陰陽(yáng)離子交換膜之間形成單個(gè)處理單元,并構(gòu)成淡水室。單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開(kāi),形成濃水室。在單元組兩端的直流電源陰陽(yáng)電極形成電場(chǎng)。來(lái)水水流流經(jīng)淡水室,水中的陰陽(yáng)離子在電場(chǎng)作用下通過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜被去除,進(jìn)入濃水室。在離子交換膜之間充填的離子交換樹(shù)脂大大地提高了離子被去除的速度。同時(shí),水分子在電場(chǎng)作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子,這些離子對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行連續(xù)再生,以使離子交換樹(shù)脂保持狀態(tài)。EDI裝置將給水分成三股獨(dú)立的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為得到的產(chǎn)水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。

      二、EDI高純水設(shè)備工作原理 

      般自然水源中都會(huì)存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽(yáng)離子組成。通過(guò)反滲透預(yù)處理,有95%-99%以上的離子可以被去除。反滲透產(chǎn)水的電阻率一般范圍是0.05-1.0兆歐,即反滲透產(chǎn)水電導(dǎo)率的一般范圍為20-1μS/cm。根據(jù)在實(shí)際應(yīng)用的情況,EDI電去離子產(chǎn)品水電阻率的范圍一般為5~18.2 兆歐。另外,原水中也可能包括其它微量元素、溶解的氣體(如CO2)和一些弱電解質(zhì)(如硼、二氧化硅等),這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中須被除掉。但是反滲透預(yù)處理對(duì)于這些雜質(zhì)的去除效果較差。因此,EDI的作用就是除去電解質(zhì)(包括弱電介質(zhì)),將水的電阻率從0.05~1.MΩ/cm提高到5~18.2 MΩ/cm。 

      三、EDI高純水設(shè)備優(yōu)點(diǎn): 
      1、無(wú)需酸堿再生,無(wú)化學(xué)藥劑使用,無(wú)酸堿廢水排放,生產(chǎn)過(guò)程無(wú)任何污染,屬清潔生產(chǎn); 
      2、無(wú)需停機(jī)再生,連續(xù)生產(chǎn)水質(zhì)穩(wěn)定的高純水; 
      3、運(yùn)行穩(wěn)定可靠,降低運(yùn)行和維修費(fèi)用; 
      4、無(wú)需派專門(mén)人員看守,易于實(shí)現(xiàn)設(shè)備自動(dòng)化控制; 
      5、設(shè)備占地面積小,減少車(chē)間建設(shè)面積,節(jié)約場(chǎng)地建設(shè)費(fèi)用投資。 
      6、控制系統(tǒng)可根據(jù)用戶具體使用要求進(jìn)行個(gè)性化設(shè)計(jì),結(jié)合*的控制軟件,現(xiàn)場(chǎng)在線集中監(jiān)控重要工藝操作參數(shù),避免人工誤操作,多方位確保系統(tǒng)*穩(wěn)定運(yùn)行。 

      四、EDI高純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域 :
      1、制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室;   
      2、在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛;   
      3、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路; 
      4、超純材料和超純化學(xué)試劑; 
      5、實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間; 
      6、汽車(chē)、家電表面拋光處理; 
      7、光電產(chǎn)品; 
      8、其他高科技精微產(chǎn)品 。

      五、EDI高純水設(shè)備與離子交換設(shè)備
      A、產(chǎn)水水質(zhì)比較: 
      EDI裝置是一個(gè)連續(xù)凈水過(guò)程,因此其產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定,電阻率可達(dá)18.25兆歐,達(dá)到超純水的指標(biāo)。混床離子交換設(shè)施的凈水過(guò)程是間斷式的,,在剛剛被再生后,其產(chǎn)品水水質(zhì)較高,而在下次再生之前,其產(chǎn)品水水質(zhì)較差。 
      B、投資量比較 
      混床離子交換設(shè)備相比EDI裝置投資量要高約20%左右,但從混床需要酸堿儲(chǔ)存、酸堿添加和廢水處理設(shè)施及后期維護(hù)、樹(shù)脂更換來(lái)看,兩者費(fèi)用相差在10%左右。隨著技術(shù)的提高與批量生產(chǎn),EDI裝置所需的投資量會(huì)大大的降低。另外,EDI裝置設(shè)備小巧,所需廠房遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于混床。 
      C、運(yùn)行成本比較:
      EDI裝置運(yùn)行費(fèi)用包括電耗、水耗、藥劑費(fèi)及設(shè)備折舊等費(fèi)用,省去了酸堿消耗、再生用水、廢水處理和污水排放等費(fèi)用。 

      六、EDI高純水設(shè)備安裝要求 

      1、無(wú)須專做安裝基礎(chǔ),地基堅(jiān)實(shí)水平即可;   
      2、入水水壓如低于0.2Mpa需加裝管道泵;   
      3、使用前需先沖洗管道,避免雜質(zhì)堵塞閥體,污染樹(shù)脂;   
      4、不可用加鹽、加鈣鹽作再生劑,定期向鹽罐加鹽,確保鹽水飽和濃度(應(yīng)保證溶解時(shí)間不小于六小時(shí));
      5、設(shè)備配置。 


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