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成都四洋科技有限公司
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更新時(shí)間:2025-05-09 17:18:02瀏覽次數(shù):41次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 智能制造網(wǎng)接觸式 半導(dǎo)體溫控平臺(tái)及設(shè)備,過測(cè)試頭與待測(cè)器件直接貼合的方式實(shí)現(xiàn)能量傳遞,與傳統(tǒng)氣流式高低溫設(shè)備(熱流儀、溫箱等)相比具有升降溫效率高,操作簡(jiǎn)單方便,體積小巧,噪音低等特點(diǎn)。
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接觸式 半導(dǎo)體溫控平臺(tái)及設(shè)備
是一款溫度范圍為-65℃到200℃氣冷型高低溫卡盤系統(tǒng),主要由氣冷高低溫卡盤和氣冷溫控器組成。系統(tǒng)具有寬泛的溫度控制范圍、緊湊的冷卻套件、純空氣制冷、高溫度精度與穩(wěn)定性控制等特性,應(yīng)用于八英寸及以下尺寸的半導(dǎo)體器件或晶圓的變溫電學(xué)性能關(guān)鍵參數(shù)分析,如:功率器件建模測(cè)試、晶圓可靠性評(píng)估、生產(chǎn)型變溫檢測(cè),變溫光電測(cè)試、射頻變溫測(cè)試等。
接觸式 半導(dǎo)體溫控平臺(tái)及設(shè)備
特征:
• 僅使用空氣冷卻—無液體或帕爾貼元件
• 溫度范圍為-65℃到200℃
• 模塊化系統(tǒng),適合單獨(dú)測(cè)試的需要
• 冷卻劑占地面積小,節(jié)省空間
• 兼容各大主流生產(chǎn)型或分析型探針臺(tái)
• 可集成全套的軟硬件于一體
高低溫載物臺(tái)CHUCK
型號(hào) TC-A200 TC-A300
溫度范圍 -65℃→+200℃;
可選300℃、400℃ 溫度均勻性 <±0.5℃@<100℃;±0.5%@>100℃
溫控系統(tǒng)分辨率 ±0.01℃
溫度穩(wěn)定性 ±0.1℃
表面平整度 <±8μm@-60℃→+200℃;<±15μm@200℃→+300℃
溫控方式 電加熱/潔凈壓縮空氣(CDA)冷卻
表面材料 鍍鎳(可選鍍金)
系統(tǒng): •
-65oC 到 +200oC 擴(kuò)展溫度范圍,低噪聲,直流控制系統(tǒng)。
• 在前面板上可設(shè)置多達(dá)5個(gè)溫度和斜坡/浸泡/循環(huán)熱循環(huán)裝置。
• LAN , RS232;可選:GPIB.
• 無需液氮或任何其它消耗性制冷劑.
• 高效的冷卻系統(tǒng),用于可靠、低溫測(cè)試混合動(dòng)力車和其他高功率設(shè)備.
高低溫度卡盤:
• 溫度控制真空卡盤可容納300毫米的晶圓.
• 高精度,控溫性好,穩(wěn)定性均勻.
• 可提供標(biāo)準(zhǔn)、高隔離性和防護(hù)配置.
• 卡盤設(shè)計(jì)提供了低雜散電容和高接地電阻,直流電源能使電噪聲最小化.
• 可與手動(dòng)或自動(dòng)探測(cè)站、激光切割器或檢查站進(jìn)行接口。
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主營(yíng)產(chǎn)品:代理歐美品牌為主,包括真空泵、真空計(jì)、膜厚儀、氣體分析、流體控制、壓力 控制、鍍膜靶材等全系列產(chǎn)品線
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