真空小型蒸鍍儀

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更新時間：2024-05-03 11:47:57瀏覽次數(shù)：64次

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鄭州科探儀器設備有限公司

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產(chǎn)品簡介

真空小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD，7寸觸摸屏控制，工藝記憶儲存方便下次使用，樣品臺旋轉(zhuǎn)0-8轉(zhuǎn)/分，自動電動擋板保護樣品，石英腔室潔凈好清洗。

詳細介紹

真空小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD

? 設備一體化設計，占地面積小，*，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；

? 設備兼容有機蒸發(fā)與無機蒸發(fā)，多元共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩(wěn)定；

? 適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗等；

? 適用于蒸發(fā)鍍膜與手套箱環(huán)境有機融合，實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝無縫對接，廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機太陽能電池及OLED薄膜等研究系統(tǒng)等

以下是不同真空度不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

原樣品沒有鍍膜 115A 100秒機械泵

115A 100秒分子泵抽12分鐘 115A 120秒分子泵抽20分鐘

真空度越高越不易氧化越接近金屬本色

真空小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
加熱方式	數(shù)字式功率調(diào)整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1200W
輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離	70-140mm
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)	≤1800℃
支持蒸發(fā)坩堝類型	鎢絲藍帶坩堝鎢絲藍鎢舟碳繩
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展	機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數(shù)顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）