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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      上海千昌工業(yè)設(shè)備有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      白光干涉 3D形貌測量系統(tǒng)
      
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								更新時間：2024-02-26 12:57:17瀏覽次數(shù)：69次
							
      
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      經(jīng)營模式：其他
      
						
      商鋪產(chǎn)品：145條
      
						
      所在地區(qū)：上海上海市
      
																		
					
      
				
      
			
      			
      
                                
      
                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      臺階儀
      
				
      
				
      
                    詳細介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                  
      白光干涉
        
      3D形貌測量系統(tǒng) 
        
      粗糙度?臺階?輪廓?三維形貌?類SEM效果 
        
      3D Surface Profilers
        
      AM-7000系列 精度高達亞納米級 在線檢測快至1秒
        
      廣泛應(yīng)用的行業(yè)
        
        
        
       
      1精確捕捉 超高精度 微觀3D形貌的能力
        
         
      AM-7000可用于對各種精密器件及材料表面進行亞納米級別測量，以“面”的形式獲取表面3D形貌
        
      通過專用軟件對3D形貌進行處理和分析，RMS重復(fù)性可達0.002nm
        
      2超高速 極大提高測量效率，可用于自動化產(chǎn)線
        
       
      AM-7000搭配大量程高速納米壓電陶瓷器件，掃描速度400μm/秒， 3200Hz加以業(yè)內(nèi)SST+GAT算法，可瞬間完成500萬點云采集
       
        
      3大視野高精度 大視野、大范圍測量
        
       
      白光干涉原理通過光干涉相位計量任意放大倍率下均可獲得＜1nm的檢測精度
       
        
      4豐富的測量工具 從容應(yīng)對各種行業(yè)應(yīng)用
        
       
      涵蓋市場上通用的國際標(biāo)準(zhǔn)測量工具，高效率輕松分析3D數(shù)據(jù)
       
        
       
        
       
      白光干涉原理
        
       
      點A和點B的干涉條紋亮度峰值之間的差即為高度差
        
        
       
      兩列頻率相同、相位差恒定、振動方向一致的相干光源可產(chǎn)生光的干涉
        
        
       
      相移干涉法使用特定波長范圍內(nèi)的光源來確認目標(biāo)面反射光和參考面反射光之間的光干涉。目標(biāo)面的反射光和參考面的反射光之間的 相 位 為 Ø，距 離 參 考 面 的 高 度 為 h，則Ø=4h/λ。借助相位測量法，使用壓電陶瓷移動測量面的光路，計算以1/4波長移動光路時獲得的多個干涉條紋的相位差（Ø），然后將其轉(zhuǎn)換為高度h。
        
        
       
      垂直掃描干涉法物鏡以一定的間隔移動，以便確定每一階的干涉條紋的亮度。當(dāng)測量面的光路和參考面的光路長度相等時，干涉條紋的亮度達到。通過確定CCD光接收元件中每點干涉條紋亮度的Z軸高度，可測出3D輪廓即高度差。
        
        
       
      大視野高精度
        
       
      大視野、大范圍測量
        
       
      白光干涉原理通過光干涉相位計量，任意放大倍率下均可獲得＜1nm的檢測精度
        
        
       
      拼接大范圍下的高精度測量
        
        
       
      高精度、高速度XY拼接平臺
        
        
       
       
      豐富的測量工具
        
      面粗糙度、線粗糙度、臺階高度、三維形貌、模板設(shè)置、統(tǒng)計功能、面積、線型對比、面型對比、直徑、半徑 、兩點距離、角度、弧度、同心度、輪廓分析、提取等高線、分形分析、剖面、形態(tài)濾波、圖形計算、皺紋、峰的統(tǒng)計、紋理均質(zhì)性、紋理方向、坡度方向、波峰波谷、函數(shù)統(tǒng)計、粒子分析
        
       
             
       技術(shù)參數(shù)       
       
       型號 ER-230 EX-230 NA-500 
       
       像素 230萬 500萬 
       
       掃描原理 白光干涉 
       
       掃描裝置 壓電陶瓷 
       
       掃描范圍 5000um 400um 100um 
       
       掃描速度 400um/s 400um/s 200um/s 
       
       被測物反射率 0.02%~99% 
       
       光源 白光光源，波長520nm 中心波長為綠光波段 白光光源，波長520nm 中心波長為綠光波段 白光光源，波長465nm 中心波長為藍光波段 
       
       傳感器重量 約2kg 
       
       顯示分辨率 0.001nm 0.001nm 0.001nm 
       
       RMS重復(fù)性*1 0.005nm 0.003nm 0.002nm 
       
       1P臺階重復(fù)性*2 0.09% 0.06% 0.05% 
       
       1-0臺階準(zhǔn)度*3 0.5% 0.3% 0.2% 
       
       工作環(huán)境 工作溫度 18-22 °C 
       
       允許工作溫度 10-35 C 
       
       儲藏溫度 0-45 C 
       
       相對濕度 20-80%，無凝結(jié) 
       
       電源 AC (100-240V/50~60H 乙 ~1A) 
       
       ○ 保持環(huán)境整潔，無油污，液體，粉塵
       ○ 避免建筑共振，建議低樓層或預(yù)設(shè)框架式結(jié)構(gòu)放置
       ○ 避免機械擾動，建議遠離大型機械放置
       ○ 避免氣流振動，建議遠離急促空氣流動放置
       ○ 建議選配隔振機構(gòu)      		 
              
       
       
        
       
       
       
       
       
       
       
       
       
       
       
        
       
       
       
       
        
			        
      
			    
      
                			    
      關(guān)鍵詞：CCD
      
                                                				
      
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