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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      上海德竹芯源科技有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      620NT 光刻機(jī)
      
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      參  考  價(jià)面議  
      
					                    
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號(hào)620NT
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
      所  在  地上海
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
      聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時(shí)間：2024-05-15 09:34:06瀏覽次數(shù)：199次
							
      
							聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 智能制造網(wǎng)
						
      
				
      
				
			
      
            
						
      
			
      
									
      
                                
      
                    產(chǎn)品簡(jiǎn)介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      EVG 620NT 光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、光電、生物醫(yī)療等領(lǐng)域，用于生產(chǎn)精密電子元件、微型機(jī)械元件和光學(xué)元件等。
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                                   
                               
                                   
      主要特點(diǎn)及參數(shù)
      ● 高效率：采用的光學(xué)技術(shù)，縮短了生產(chǎn)周期，提高了生產(chǎn)效率
      ● 高精度：通過對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的精細(xì)調(diào)整，保證圖像的精確性
      ● 易操作：系統(tǒng)控制簡(jiǎn)單方便，易于生產(chǎn)操作
      ● 設(shè)備安全：系統(tǒng)采用安全設(shè)計(jì)，確保生產(chǎn)過程中的人員和設(shè)備安全
      ● 技術(shù)支持：提供專業(yè)的技術(shù)支持和售后服務(wù)，保證系統(tǒng)的正常使用
      ● 光刻材料：支持多種光刻材料，包括硅片、玻璃片、聚碳酸酯等
      ● 半導(dǎo)體工藝：支持常用的半導(dǎo)體工藝，如薄膜沉積、光刻、蝕刻等
      ● 光刻工具：支持常用的光刻工具，如光刻掩膜、光刻模板等
      ● 分辨率：可達(dá)到 100 nm
      ● 工作面積：620 mm × 620 mm
      ● 光源：KrF 激光
      ● 光路系統(tǒng)：F-Theta 鏡

      EVG 620NT 光刻機(jī)的工藝過程大致如下：
      1. 材料準(zhǔn)備：選擇適當(dāng)?shù)墓饪滩牧?，如硅片、玻璃片等，進(jìn)行表面處理
      2. 掩膜制作：根據(jù)生產(chǎn)要求，制作光刻掩膜，并確保掩膜的精確性
      3. 樣品處理：將樣品固定在工作臺(tái)上，并確保樣品的穩(wěn)定性
      4. 光刻操作：打開光刻機(jī)，根據(jù)生產(chǎn)要求，對(duì)樣品進(jìn)行光刻處理
      5. 樣品檢查：檢查樣品的質(zhì)量，確保其符合生產(chǎn)要求
                               
                             
                             
                               
                                   
      ● 分辨率：可達(dá)到 100 nm
      ● 工作面積：620 mm × 620 mm
      ● 光源：KrF 激光
      ● 光路系統(tǒng)：F-Theta 鏡
                               
                             
                             
			        
      
			    
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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