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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
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      上海德竹芯源科技有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
                當(dāng)前位置：上海德竹芯源科技有限公司>>半導(dǎo)體工藝設(shè)備>>SENTECH-等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 - (SI 500 PPD)
            
      
			
      
				
      
					
      SENTECH-等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 - (SI 500 PPD)
      
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      參  考  價(jià)面議  
      
					                    
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號SI 500 PPD
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
      所  在  地上海
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
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								更新時(shí)間：2024-05-15 09:23:48瀏覽次數(shù)：113次
							
      
							聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 智能制造網(wǎng)
						
      
				
      
				
			
      
            
						
      
			
      
									
      
                                
      
                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      SI 500 PPD 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)采用經(jīng)典平行板電極設(shè)計(jì)，兼容低溫沉積工藝。
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                                   
                               
                                   
      等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
      Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition - PECVD

      SI 500 PPD PECVD 采用經(jīng)典平行板電極設(shè)計(jì)，兼容低溫沉積工藝。

      主要配置特點(diǎn)
           ● 工藝靈活性：SI 500 PPD PECVD 可在從室溫到 350℃ 的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行 SiO2、SiNx、SiOxNy 和 α-Si 的標(biāo)準(zhǔn)的等離子體化學(xué)氣相沉積工藝。
           ●  預(yù)真空室：SI 500 PPD PECVD 的特色是配備預(yù)真空室和干泵，用于無油、高效率化學(xué)氣相沉積過程。
           ●  控制軟件：SENTECH強(qiáng)大的用戶界面友好軟件，包括模擬圖形用戶界面、參數(shù)窗口、工藝菜單編輯窗口、數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

      應(yīng)用展示
      低溫沉積Si、SiO2薄膜
      用戶友好控制軟件
                               
                             
                             
                               
                                   
      SI 500 PPD配置選項(xiàng)
           ● 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積主機(jī)
           ● 預(yù)真空室
           ● 適用于大到 200mm 的晶片
           ● 襯底溫度：從室溫到 350?°C
           ● 可選低頻射頻進(jìn)一步降低應(yīng)力
           ● 用于沉積 TEOS 的液態(tài)前驅(qū)體解決方案
           ● 干泵組
                               
                             
                             
			        
      
			    
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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