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上海德竹芯源科技有限公司
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產(chǎn)品型號R-200 Advance
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地上海
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更新時間:2024-05-15 09:18:17瀏覽次數(shù):47次
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Picosun R-200 系列原子層沉積系統(tǒng)是一款多功能的原子層沉積平臺,是用于研發(fā)的理想選擇,適用于 IC 器件、MEMS 器件、顯示器、LED、激光器以及透鏡、光學(xué)部件、珠寶、硬幣、醫(yī)療植入物等 3D 部件的研發(fā)。
● 適用 2 - 8 inch 晶圓,156mm × 156mm 太陽能硅片
● 可適用于多孔,通孔,高深寬比樣品(可達 1 : 2500)
● 工藝溫度:50 - 500℃
● Advance 型號配有等離子處理系統(tǒng),工藝溫度 450℃(可選配特定chuck盤至 650℃)
● 適用鍍膜種類:Al2O3,TiO2,SiO2,Ta2O5,HfO2,ZnO,ZrO2,AlN,TiN,Pt,Ir 等
● 手動上料,可選配機械臂,搬運機器人或 Cassette-to-Cassette 上料
● 前驅(qū)體種類:液體、固體、氣體、臭氧源、等離子體等
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