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      行業(yè)產(chǎn)品

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      上海德竹芯源科技有限公司


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      R-200 Advance 原子層沉積系統(tǒng)

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      具體成交價以合同協(xié)議為準

      產(chǎn)品型號R-200 Advance

      品       牌

      廠商性質(zhì)其他

      所  在  地上海

      聯(lián)系方式:查看聯(lián)系方式

      更新時間:2024-05-15 09:18:17瀏覽次數(shù):47次

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      產(chǎn)品簡介

      Picosun R-200 系列原子層沉積系統(tǒng)是一款多功能的原子層沉積平臺,是用于研發(fā)的理想選擇,適用于 IC 器件、MEMS 器件、顯示器、LED、激光器以及透鏡、光學(xué)部件、珠寶、硬幣、醫(yī)療植入物等 3D 部件的研發(fā)。

      詳細介紹

      適用 2 - 8 inch 晶圓,156mm × 156mm 太陽能硅片

      可適用于多孔,通孔,高深寬比樣品(可達 1 : 2500)

      工藝溫度:50 - 500℃

      Advance 型號配有等離子處理系統(tǒng),工藝溫度 450℃(可選配特定chuck盤至 650℃)

      適用鍍膜種類:Al2O3,TiO2,SiO2,Ta2O5,HfO2,ZnO,ZrO2,AlN,TiN,Pt,Ir 等

      手動上料,可選配機械臂,搬運機器人或 Cassette-to-Cassette 上料

      前驅(qū)體種類:液體、固體、氣體、臭氧源、等離子體等

      關(guān)鍵詞:搬運機器人

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