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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      上海德竹芯源科技有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
                當(dāng)前位置：上海德竹芯源科技有限公司>>半導(dǎo)體工藝設(shè)備>>TS系列 常壓氧化/擴(kuò)散爐APCVD
            
      
			
      
				
      
					
      TS系列 常壓氧化/擴(kuò)散爐APCVD
      
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      參  考  價(jià)面議  
      
					                    
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號TS系列 APCVD
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
      所  在  地上海
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
      聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時(shí)間：2024-05-15 09:15:49瀏覽次數(shù)：65次
							
      
							聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 智能制造網(wǎng)
						
      
				
      
				
			
      
            
						
      
			
      
									
      
                                
      
                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      適用于常壓干氧氧化、濕氧氧化、氫氧合成氧化、擴(kuò)散、退火/推進(jìn)、合金等工藝。
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                                   
                               
                                   
           ● 常壓工藝：燒結(jié)、合金、退火、含氫退火等工藝，特殊低溫爐體（<500°C）
           ● 干氧/擴(kuò)散 Max .1350°C，薄柵氧（60 Angstrom），可配置 Trans LC or HCL
           ● 濕氧，帶水冷外點(diǎn)火氫氧合成，水汽注入厚氧工藝 up to 16 Micron，可配置 Trans LC or HCL
           ● POCl3 / BBr3 擴(kuò)散工藝，用于半導(dǎo)體器件工藝
           ● 支持 6 ~ 12 寸的晶圓
           ● 有保證的工藝指標(biāo)
                    
           ● 可提供多種標(biāo)準(zhǔn)工藝和定制化工藝

      主要系統(tǒng)特性
           ● 提供多用途大氣和 CVD 處理室，適用于任何類型的硅片，即 100mm - 300mm 圓形（半導(dǎo)體）晶圓，125 – >156mm 方形（太陽能）晶圓
           ● 批量處理每管 25 至 1000 片晶圓
           ● 設(shè)備模塊化設(shè)置，1 - 4 管?？展軐砜梢酝ㄟ^附加/新加工進(jìn)行改造
           ● 大氣工藝：退火（N2，成型氣體），干/濕氧化物，POCl3，BBr3
           ● LPCVD 工藝：摻雜/未摻雜的多晶硅、氮化硅、三通硅、低相色譜、HTO、西波士
           ● ALD：Al2O3，TiO2，HfO2
           ● 提供小尺寸、手動加載或全自動晶圓傳輸工具

      客戶利益
           ● 從實(shí)驗(yàn)室到晶圓廠：從實(shí)驗(yàn)室規(guī)模到大批量生產(chǎn)，多種工藝都可輕松更換
           ● 提供完整的流程和服務(wù)支持團(tuán)隊(duì)，直接從Tempress總部
           ● 高度靈活地選擇加工
           ● 系統(tǒng)都是向后兼容的。這保證了在將來的任何時(shí)候?yàn)槟腡empress爐設(shè)備提供全面支持
           ● 獲得Tempress在半導(dǎo)體加工方面的全面內(nèi)部知識，這些知識也可應(yīng)用于太陽能電池制造解決方案
                               
                             
                             
                               
                                                            
                             
                             
			        
      
			    
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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