PLC 工控機(jī) 嵌入式系統(tǒng) 人機(jī)界面 工業(yè)以太網(wǎng) 現(xiàn)場(chǎng)總線 變頻器 機(jī)器視覺 DCS PAC/PLMC SCADA 工業(yè)軟件 ICS信息安全 應(yīng)用方案 無線通訊
上海德竹芯源科技有限公司
會(huì)員1.png)
上海德竹芯源科技有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)EB-LC4-A0X / EB-LC6-A0X / EB-LC8-A0X
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地上海
聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2024-05-15 09:14:41瀏覽次數(shù)：56次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 智能制造網(wǎng)暫無信息 |
對(duì)傳統(tǒng)熱蒸發(fā)技術(shù)難以實(shí)現(xiàn)的材料蒸發(fā)，可采用電子束蒸發(fā)的方式來實(shí)現(xiàn)。不同于傳統(tǒng)的輻射加熱和電阻絲加熱，高能電子束轟擊可實(shí)現(xiàn)超過3000℃的局域高溫，這使得絕大部分常用材料都可以被蒸發(fā)出來，甚至是高熔點(diǎn)的材料，例如，Pt，W，Mo，Ta以及一些氧化物，陶瓷材料等。矽碁提供的電子束蒸發(fā)源可承載1-6種不同的材料，實(shí)現(xiàn)多層膜工藝；蒸發(fā)源本身防污染設(shè)計(jì)，使得不同材料之間的交叉污染得以降低。
電子束蒸發(fā)鍍膜
E-beam Evaporation
在真空環(huán)境下用聚焦電子束加熱的方式將材料加熱到蒸發(fā)，真空腔室內(nèi)的基片和襯底表面會(huì)形成薄膜或涂層，此過程被稱為真空熱蒸鍍，加熱材料的方式主要有熱舟式和坩堝式。
電子束蒸發(fā)原理圖
由于電子束轟擊的局域加熱特性，使得高熔點(diǎn)材料也可以得到有效加熱，電子束蒸發(fā)在熱蒸發(fā)的基礎(chǔ)上，可實(shí)現(xiàn)高熔點(diǎn)材料的鍍膜，例如導(dǎo)電金屬，Ti, Pt, Mo, W 等，也可以用于介質(zhì)材料的鍍膜，SiO2, TiO2, Al2O3, 還有鍵能較高的氮化物TiN，AlN 等。電子束蒸發(fā)相比于熱蒸發(fā)具有更高的靈活性和材料覆蓋能力，用戶僅需選擇蒸發(fā)工位容量和數(shù)量即可。
電子束蒸發(fā)特點(diǎn)
系統(tǒng)的自動(dòng)控制采用的是石英晶振自動(dòng)控制的Rate Control鍍膜機(jī)制，在整個(gè)薄膜形成過程中，蒸發(fā)速率是恒定的，在累積到目標(biāo)薄膜厚度時(shí)，系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)結(jié)束鍍膜，以實(shí)現(xiàn)厚度的精確控制。
Rate control 原理
根據(jù)客戶不同的真空度要求，我們可定制真空系統(tǒng)，其中包括高真空版本（5 × 10-7 Torr），近超高真空版本（5 × 10-9 Torr），以及超高真空版本（5 × 10-10 Torr），以滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域和薄膜質(zhì)量的需求。對(duì)于基底材料的特殊要求，我們可提供不同功能的樣品臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)加熱或者冷卻。
加熱型樣品臺(tái)
冷卻型樣品臺(tái)
多片樣品臺(tái)
樣品臺(tái)偏壓
針對(duì)金屬和介質(zhì)的Lift-off工藝，我們可提供Lift-off專用型電子束蒸發(fā)。針對(duì)超導(dǎo)領(lǐng)域的約瑟夫森結(jié)，我們可提供樣品臺(tái)傾斜設(shè)計(jì)的超高真空版本電子束蒸發(fā)。針對(duì)光學(xué)鍍膜，也可以配置離子源輔助的電子束蒸發(fā)。
Lift-off工藝特點(diǎn)
雙傾角鍍膜樣品臺(tái)-約瑟夫森結(jié)
離子源輔助電子束蒸發(fā)-光學(xué)鍍膜
應(yīng)用領(lǐng)域：
● 金屬/介質(zhì) Lift-Off 工藝
● 多層膜金屬電極
● 超導(dǎo)約瑟夫森結(jié)制備
● 光學(xué)鍍膜
應(yīng)用展示：
配置選型：
配置特點(diǎn)：
● 腔體尺寸：根據(jù)鍍膜基片尺寸、數(shù)量和鍍膜距離確定
● 極限真空優(yōu)于 3 × 10-7 Torr（可選超高真空版本 5 × 10-9 Torr）
● 基片臺(tái)：常規(guī)支持 8 寸并向下兼容；可定制特殊尺寸樣品夾具，支持單片鍍膜或多片同時(shí)鍍膜
● 電子槍功率 6 kW / 10 kW，坩堝數(shù)量：1/4/6，坩堝容量：7 / 15 / 25 / 40 cc
● 坩堝防污染設(shè)計(jì)
● 全自動(dòng)鍍率控制石英晶振監(jiān)控
● 基片可選加熱：Max. 300℃ / 500℃ / 800℃
● 基片可選水冷或液氮冷卻
● 可配備離子束輔助沉積，用于光學(xué)薄膜制備
● 可配備快速進(jìn)樣室，可選配樣品射頻清洗/刻蝕功能
● 可與手套箱集成
● 可根據(jù)用戶要求將其它鍍膜技術(shù)與電子束蒸發(fā)集成，例如磁控濺射、熱蒸發(fā)等
● 薄膜均勻度優(yōu)于 ±3%
配置選型：
配置特點(diǎn)：
● 腔體尺寸：根據(jù)鍍膜基片尺寸、數(shù)量和鍍膜距離確定
● 極限真空優(yōu)于 3 × 10-7 Torr（可選超高真空版本5 × 10-9 Torr）
● 基片臺(tái)：常規(guī)支持 8 寸并向下兼容；可定制特殊尺寸樣品夾具，支持單片鍍膜或多片同時(shí)鍍膜
● 電子槍功率 6 kW / 10 kW，坩堝數(shù)量：1/4/6，坩堝容量：7 / 15 / 25 / 40 cc
● 坩堝防污染設(shè)計(jì)
● 全自動(dòng)鍍率控制石英晶振監(jiān)控
● 基片可選加熱：Max.300℃ / 500℃ / 800℃
● 基片可選水冷或液氮冷卻
● 可配備離子束輔助沉積，用于光學(xué)薄膜制備
● 可配備快速進(jìn)樣室，可選配樣品射頻清洗/刻蝕功能
● 可與手套箱集成
● 可根據(jù)用戶要求將其它鍍膜技術(shù)與電子束蒸發(fā)集成，例如磁控濺射、熱蒸發(fā)等
● 薄膜均勻度優(yōu)于 ±3%
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
智能制造網(wǎng) 設(shè)計(jì)制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
