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      行業(yè)產(chǎn)品

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      上海德竹芯源科技有限公司


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      ASTRO PACT-10H 等離子去膠機

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      參  考  價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準

      產(chǎn)品型號ASTRO PACT-10H

      品       牌

      廠商性質(zhì)其他

      所  在  地上海

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      更新時間:2024-05-15 09:11:25瀏覽次數(shù):65次

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      產(chǎn)品簡介

      主要應(yīng)用晶圓顯影后的底膠去除或者干法蝕刻工藝后變性的光刻膠去除,光刻膠的去除及對樣片是否有損傷,將影響到后續(xù)工藝和器件的性能。

      詳細介紹

      應(yīng)用領(lǐng)域:高劑量離子注入光刻膠的去除,濕法或干法刻蝕前后殘膠去除,MEMS 中犧牲層的去除,去除化學(xué)殘余物,去浮渣工藝,SU-8 光刻膠去除等

      優(yōu)勢:去膠速度快,對產(chǎn)品損傷小,設(shè)計緊湊,操作簡單

      工藝腔室:鋁材質(zhì),尺寸 350(W)×350(D)×170(H)mm

      樣品尺寸:12 寸,向下兼容

      腔門:抽屜式帶加熱臺盤 60 - 200℃(選配 250℃ 加熱臺盤),帶觀察窗

      微波源:2.45GHz, 1200W

      氣路:標配兩路工藝氣體,帶質(zhì)量流量計(可升級至 4 路)

      真空規(guī):Pirani,PCR280 Standard

      真空泵:干泵或油泵可選

      控制系統(tǒng):10.4 寸觸摸屏,Windows系統(tǒng),圖形化操作界面

      電力需求:3 / N / PE AC 50Hz 400 / 240V 16A

      整機尺寸:560(W)×770(D)×770(H)mm


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