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上海德竹芯源科技有限公司
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上海德竹芯源科技有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)TH-LC4-A0X / TH-LC6-A0X / TH-LC8-A0X
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地上海
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更新時(shí)間：2024-05-15 09:07:44瀏覽次數(shù)：26次
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在真空環(huán)境下用熱阻絲加熱的方式將材料加熱到蒸發(fā)，真空腔室內(nèi)的基片和襯底表面會(huì)形成薄膜或涂層，此過程被稱為真空熱蒸鍍，加熱材料的方式主要有熱舟式和坩堝式。
熱蒸發(fā)鍍膜
Thermal Evaporation
在真空環(huán)境下用熱阻絲加熱的方式將材料加熱到蒸發(fā)，真空腔室內(nèi)的基片和襯底表面會(huì)形成薄膜或涂層，此過程被稱為真空熱蒸鍍，加熱材料的方式主要有熱舟式和坩堝式。
真空熱蒸發(fā)原理圖
由于受到熱阻絲加熱溫度的限制，熱舟蒸發(fā)鍍膜僅僅適用于低熔點(diǎn)和合適蒸氣壓的材料，例如常用的導(dǎo)電金屬，Au, Cu, Al, Ag 等，離子化合物，LiF, MgF2 等。熱舟的材質(zhì)和形狀（容量）需根據(jù)應(yīng)用場景來選擇?？蛻粢部筛鶕?jù)特殊的材料體系來設(shè)計(jì)特殊的蒸發(fā)舟。
熱舟選型
除了熱舟蒸發(fā)之外，還可選擇坩堝式蒸發(fā)源，坩堝式蒸發(fā)源的特點(diǎn)是，容量大 ，適用于較低蒸發(fā)溫度的材料，例如有機(jī)物蒸發(fā)，廣泛被應(yīng)用于OLED，OPV，薄膜鋰電池，鈣鈦礦太陽能電池等熱門領(lǐng)域。
熱舟蒸發(fā)和坩堝式熱蒸發(fā)
系統(tǒng)的自動(dòng)控制采用的是石英晶振自動(dòng)控制的 Rate Control 鍍膜機(jī)制，在整個(gè)薄膜形成過程中，蒸發(fā)速率是恒定的，在累積到目標(biāo)薄膜厚度時(shí)，系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)結(jié)束鍍膜，以實(shí)現(xiàn)厚度的精確控制。
Rate control 原理
根據(jù)客戶不同的真空度要求，我們可定制真空系統(tǒng)，其中包括高真空版本（5 × 10-7 Torr），近超高真空版本（5 × 10-9 Torr），以及超高真空版本（5 × 10-10 Torr），以滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域和薄膜質(zhì)量的需求。對(duì)于基底材料的特殊要求，我們可提供不同功能的樣品臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)加熱、循環(huán)水冷卻、液氮冷卻和等離子體清洗。
加熱型樣品臺(tái)
冷卻型樣品臺(tái)
多片樣品臺(tái)
樣品臺(tái)偏壓
有機(jī)鍍膜應(yīng)用，通過手套箱互聯(lián)
有機(jī)鍍膜應(yīng)用，通過真空傳送腔互聯(lián)
應(yīng)用領(lǐng)域：
● 低熔點(diǎn)金屬薄膜電極，低熔點(diǎn)離子化合物電極
● 透明電極
● OLED/QLED/Micro-LED
● 有機(jī)太陽能電池
● 有機(jī)鈣鈦礦太陽能電池
● 有機(jī)傳感器
● 硫化物
● 紅外傳感器
應(yīng)用展示：
配置選型：
配置特點(diǎn)：
● 腔體尺寸：根據(jù)鍍膜基片尺寸、數(shù)量和鍍膜距離確定
● 樣品尺寸：156 × 156 mm, 200 × 200 mm, 300 × 300 mm等
● 極限真空優(yōu)于 5 × 10-7 Torr（從大氣環(huán)境開始抽真空，2小時(shí)之內(nèi)可達(dá)到）可定制真空度要求
● 蒸發(fā)源：熱舟式，坩堝式
● 全自動(dòng)鍍率控制石英晶振監(jiān)控，可根據(jù)鍍率反饋功率控制
● 基片可選加熱：Max.300℃ / 500℃ / 800℃
● 基片可選水冷，同時(shí)可旋轉(zhuǎn)
● 可配備快速進(jìn)樣室
● 可與手套箱集成，支持多種集成方式
● 支持多腔體互聯(lián)，也可與其他鍍膜技術(shù)集成（磁控濺射、電子束蒸發(fā)）
● 可借助手套箱互聯(lián)PEALD系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)低溫條件下器件的薄膜封裝
* 若有小試，中試需求，可聯(lián)系我們了解線性蒸發(fā)機(jī)臺(tái)
配置選型：
常用配置和選型
配置特點(diǎn)：
● 腔體尺寸：根據(jù)鍍膜基片尺寸、數(shù)量和鍍膜距離確定
● 樣品尺寸：156 × 156 mm, 200 × 200 mm, 300 × 300 mm等
● 極限真空優(yōu)于 5 × 10-7 Torr（從大氣環(huán)境開始抽真空，2 小時(shí)之內(nèi)可達(dá)到）可定制真空度要求
● 蒸發(fā)源：熱舟式，坩堝式
● 全自動(dòng)鍍率控制石英晶振監(jiān)控，可根據(jù)鍍率反饋功率控制
● 基片可選加熱：Max. 300℃ / 500℃ / 800℃
● 基片可選水冷，同時(shí)可旋轉(zhuǎn)
● 可配備快速進(jìn)樣室
● 可與手套箱集成，支持多種集成方式
● 支持多腔體互聯(lián)，也可與其他鍍膜技術(shù)集成（磁控濺射、電子束蒸發(fā)）
● 可借助手套箱互聯(lián)PEALD系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)低溫條件下器件的薄膜封裝
* 若有小試，中試需求，可聯(lián)系我們了解線性蒸發(fā)機(jī)臺(tái)
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