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      上海德竹芯源科技有限公司


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      710 掃描俄歇納米探針

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      產(chǎn)品型號(hào)710

      品       牌

      廠商性質(zhì)其他

      所  在  地上海

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      更新時(shí)間:2024-05-15 09:00:34瀏覽次數(shù):106次

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      產(chǎn)品簡(jiǎn)介

      PHI 710 掃描俄歇納米探針是一臺(tái)高性能的俄歇電子能譜(AES)儀器。該設(shè)備能分析納米級(jí)特征區(qū)域,超薄薄膜和多層結(jié)構(gòu)材料表界面的元素態(tài)和化學(xué)態(tài)信息。作為高空間分辨率,高靈敏度和高能量分辨率的俄歇電子能譜儀,PHI 710 可以為用戶(hù)提供納米尺度方面的各種分析需求。

      詳細(xì)介紹

      特點(diǎn)

      SEM分辨率 ≤ 3 nm, AES分辨率 ≤ 8 nm

      在俄歇能譜的采集分析過(guò)程中,包括譜圖,深度剖析及元素分布成像,首先需要在 SEM 圖像上定義樣品分析區(qū)域,同時(shí)要求束斑直徑小且穩(wěn)定。PHI 710 SEM 圖像的空間分辨率小于 3 nm,AES的空間分辨率小于 8 nm(@ 20 kV, 1 nA),如下圖所示。


      圖1 Si基底上的Au的SEM圖像,PHI 710 SEM圖像的空間分辨率小于3 nm

      圖2 鑄鐵韌性斷裂的界面分析,左邊是SEM圖像,中間是鈣,鎂,鈦的俄歇成像譜圖疊加,右邊則是硫的俄歇成像,這充分證明了PHI 710在納米級(jí)的尺度下的化學(xué)態(tài)的分析能力


      同軸筒鏡分析器(CMA





      PHI 公司電子槍和同軸筒鏡分析器同軸的幾何設(shè)計(jì),具有靈敏度高和各個(gè)角度均可收集信號(hào)的特點(diǎn),滿足了表面粗糙不平整樣品對(duì)俄歇分析全面表征能力的需求。如上圖所示,所有俄歇的數(shù)據(jù)都是從顆粒的各個(gè)方向收集而來(lái),成像沒(méi)有陰影。若設(shè)備配備的不是同軸分析器,則儀器的靈敏度會(huì)降低,且成像有陰影,一些分析區(qū)域會(huì)由于位置的原因而無(wú)法分析。如果想要得到高靈敏度,只能分析正對(duì)著分析器的區(qū)域。如下圖所示,若需要對(duì)顆粒的背面,顆粒與顆粒之間的區(qū)域分析,圖像會(huì)有陰影。




      俄歇能譜儀的化學(xué)態(tài)成像

      圖譜成像

      PHI 710 能從俄歇成像分析的每個(gè)像素點(diǎn)中提取出譜圖的相關(guān)信息,該功能可實(shí)現(xiàn)化學(xué)態(tài)成像。


      高能量分辨率俄歇成分像

      下圖是半導(dǎo)體芯片測(cè)試分析,測(cè)試的元素是 Si。通過(guò)對(duì) Si 的俄歇影像進(jìn)行線性最小二乘法擬合(LLS),俄歇譜圖很清楚地反映出了三個(gè) Si 的不同化學(xué)態(tài)的區(qū)域,分別是:?jiǎn)钨|(zhì)硅,氮氧化硅和金屬硅,且可以從中分別提取出對(duì)應(yīng)的 Si 的俄歇譜圖,如最下方三張圖所示。




      納米級(jí)的薄膜分析

      如下圖SEM圖像中所示,以硅為襯底的鎳的薄膜上有缺陷,這是由于退火后,在界面處形成了硅鎳化合物。分別在缺陷區(qū)域和正常區(qū)域設(shè)置了一個(gè)分析點(diǎn),分析條件為高能量分辨率模式下(0.1%),電子束直徑 20 nm,離子槍采用 0.5 kV 設(shè)定,如下圖所示,在 MultiPak 軟件中,采取最小二乘擬合法用于區(qū)分金屬鎳和硅鎳化合物,同樣區(qū)分金屬硅和硅化物。可以看出,硅鎳化合物僅存在于界面處,而在鎳薄膜層和硅襯底中都不存在。但是,在鎳涂層的缺陷處,發(fā)現(xiàn)了硅鎳化合物。



      PHI SmartSoft-AES用戶(hù)界面

      PHI SmartSoft 是一個(gè)方便使用的儀器操作軟件。軟件通過(guò)任務(wù)導(dǎo)向和卷標(biāo)橫跨頂部的顯示指導(dǎo)用戶(hù)輸入樣品,定義分析點(diǎn),并設(shè)定分析。一個(gè)強(qiáng)大的“自動(dòng)Z軸定位"功能可定義多個(gè)分析點(diǎn)并達(dá)到理想的樣品分析定位。簡(jiǎn)潔明了的界面設(shè)計(jì)及軟件功能設(shè)置可以讓操作者快速上手,方便設(shè)置,保存和調(diào)取分析參數(shù)。




      PHI MultiPak 數(shù)據(jù)處理軟件

      MultiPak 軟件擁有全面的俄歇能譜數(shù)據(jù)庫(kù)。采譜分析,線掃描分析,成像和深度剖析的數(shù)據(jù)都能用 MultiPak 來(lái)處理。它強(qiáng)大的功能包括峰的定位,化學(xué)態(tài)信息及檢測(cè)限的提取,定量測(cè)試和圖像的增強(qiáng)等。




      選配件

      真空室內(nèi)原位樣品放置臺(tái)

      原位斷裂

      真空傳送管

      預(yù)抽室導(dǎo)航相機(jī)

      電子能量色散探測(cè)器(EDS)

      電子背散射衍射探測(cè)器(EBSD)

      背散射電子探測(cè)器(BSE)

      聚焦離子束(FIB)


      應(yīng)用領(lǐng)域

      半導(dǎo)體組件:缺陷分析、刻蝕/清潔殘余物分析、短路問(wèn)題分析、接觸污染物分析、接口擴(kuò)散現(xiàn)象分析、封裝問(wèn)題分析等、FIB組件分析

      顯示器組件:缺陷分析、刻蝕/清潔殘余物分析、短路問(wèn)題分析、接觸污染物分析、接口擴(kuò)散現(xiàn)象分析等

      磁性?xún)?chǔ)存組件:定義層、表面元素、接口擴(kuò)散分析、孔洞缺陷分析、表面污染物分析、磁頭缺陷分析、殘余物分析等

      玻璃及陶瓷材料:表面沉積物分析、清潔污染物分析、晶界分析等

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