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      杭州大華儀器制造有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
                當(dāng)前位置：杭州大華儀器制造有限公司>>等離子體技術(shù)應(yīng)用設(shè)備系列>>DH2008 系列微波 CVD 薄膜制備裝置
            
      
			
      
				
      
					
      DH2008 系列微波 CVD 薄膜制備裝置
      
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      參  考  價(jià)面議  
      
					                    
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      產(chǎn)品型號(hào)
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
      所  在  地杭州市
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
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								更新時(shí)間：2024-04-26 20:00:46瀏覽次數(shù)：136次
							
      
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                    產(chǎn)品簡(jiǎn)介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      本裝置由公司和武漢工程大學(xué)聯(lián)合研制，由微波源、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、微波傳輸及微波諧振腔等部分組成
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                                                                 
      本裝置由公司和武漢工程大學(xué)聯(lián)合研制，由微波源、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、微波傳輸及微波諧振腔等部分組成。適合大學(xué)近現(xiàn)代物理、材料、化學(xué)等領(lǐng)域進(jìn)行微波 CVD 原理與方法的教學(xué)、研究，金剛石與類金剛石薄膜制備實(shí)驗(yàn)及科學(xué)研究，以及用于生長(zhǎng)碳納米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜，具有生長(zhǎng)速度快、操作簡(jiǎn)便、性價(jià)比高等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)可完成等離子體刻蝕加工實(shí)驗(yàn)、微波等離子體表面改性等實(shí)驗(yàn)。
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      技術(shù)參數(shù)
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