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杭州大華儀器制造有限公司
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產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地杭州市
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更新時間：2024-04-26 19:58:27瀏覽次數(shù)：254次
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應(yīng)用領(lǐng)域：本裝置是磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，該系統(tǒng)兼容直流和射頻濺射源，可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜(如：ITO)等；廣泛應(yīng)用于科研院所、實驗室制備單層或多層薄膜，以及新材料、新工藝研究
應(yīng)用領(lǐng)域：
本裝置是磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，該系統(tǒng)兼容直流和射頻濺射源，可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜 ( 如：ITO) 等；廣泛應(yīng)用于科研院所、實驗室制備單層或多層薄膜，以及新材料、新工藝研究。 本裝置系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊，系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計可擴展性高，在保證系統(tǒng)穩(wěn)定性的前提下，進一步優(yōu)化您的實驗室利用空間；適合擺放于工作臺面上。
基本配置：
◆真空腔室：Φ250 mm(ID) x 250 mm(H)
◆真空系統(tǒng)：機械泵 + 分子泵兩級真空系統(tǒng) 前級泵：VRD-16 機械泵，抽速：4L/S ；主抽泵：分子泵，抽氣速率：300L/S 主抽閥：CC-100 超高真空手動插板閥， 可調(diào)節(jié)分子泵抽速，有利于穩(wěn)定工藝氣壓。
◆極限真空：<5×10-5Pa
◆恢復(fù)真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min)
◆真空測量：“兩低一高" 數(shù)顯復(fù)合真空計
◆濺 射 源：最多 2×2 英寸磁控靶
◆濺射電源：直流 (500W ) 一臺（標配）
◆進氣系統(tǒng)：一路 MFC 控制的工藝氣路（Ar）
◆樣品臺：可容納樣品尺寸：3 英寸樣品托一個 , 配擋板，轉(zhuǎn)速 0-30rpm 連續(xù)可調(diào) ; 樣品可加熱控溫， 溫度范圍：室溫 -300℃，控溫精度 ±0.5℃；
◆系統(tǒng)控制：10 英寸觸摸屏 +PLC 控制
選擇配置：
◆樣品臺可水冷，采用直接式水冷形式，水冷不控溫
◆全量程真空計（ Inficon）
◆電容式隔膜真空計 ( 測量濺射工作壓力 )
◆射頻電源（RF）300W（可選）
系統(tǒng)要求標準配置：
◆工藝氣體 :25psi，純度 99.99% 以上
◆工藝氣體（Ar） ◆工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮氣
◆電 源 : 單相 220V , 50Hz, 16A
◆冷 凍 水 :18-25℃ , 1L/min，壓力 < 0.4MPa
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