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北京費(fèi)恩科技有限公司
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更新時(shí)間:2024-04-16 14:21:13瀏覽次數(shù):110次
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UVIR寬波段UV-SWIR成像測試系統(tǒng)針對寬波段成像系統(tǒng)而開發(fā),實(shí)際上是一個(gè)可變的靶標(biāo)成像投影系統(tǒng),通過用一系列不同的靶標(biāo)來將它們的圖像投射到被測相機(jī)接收方向,可測試的相機(jī)系統(tǒng)包括:紫外相機(jī)、VIS可見光相機(jī)、NIR相機(jī)、SWIR相機(jī)
UVIR寬波段UV-SWIR成像測試系統(tǒng)針對寬波段成像系統(tǒng)而開發(fā),實(shí)際上是一個(gè)可變的靶標(biāo)成像投影系統(tǒng),通過用一系列不同的靶標(biāo)來將它們的圖像投射到被測相機(jī)接收方向,可測試的相機(jī)系統(tǒng)包括:紫外相機(jī)、VIS可見光相機(jī)、NIR相機(jī)、SWIR相機(jī)。
通過分析被測相機(jī)生成的圖像,觀察員或軟件算法對圖像質(zhì)量進(jìn)行評價(jià),測量得出被測相機(jī)的重要特征參數(shù),能夠測量測量像質(zhì)參數(shù)(分辨率、MRC、MTF)和輻射參數(shù)(靈敏度、噪聲參數(shù)、響應(yīng)函數(shù))。
UVIR-A 測試系統(tǒng)主要由四個(gè)模塊組成:CDT 離軸反射式光管, XE150-A 寬波段UV- SWIR 光源, MRW-8電動(dòng)旋轉(zhuǎn)靶輪,一組靶標(biāo),計(jì)算機(jī),圖像采集卡,TAS-A計(jì)算程序。 UVIR-B 在以上基礎(chǔ)上升級(jí)了光源和計(jì)算程序,使用 XE150-B光源和TAS-B計(jì)算程序。
產(chǎn)品特征:
? 可在寬波段280nm到1700nm投影參考靶標(biāo)圖像
? 被測相機(jī)的光學(xué)口徑不超過100 mm均可測量 (被測口徑可提升)
? 可模擬暗夜和非常亮的白天
? 計(jì)算機(jī)化測試系統(tǒng),可半自動(dòng)測量UV-SWIR成像系統(tǒng)的重要參數(shù)(UVIR-B版本)
? 測試性能:
UVIR-A:分辨率,最小可分辨對比度MRC,MTF, 畸變,視場
UVIR-B:分辨率,最小可分辨對比度MRC,MTF, 畸變,視場,靈敏度,信噪比SNR,噪聲等效照度,固定圖形噪聲FPN,不均勻性,響應(yīng)函數(shù),動(dòng)態(tài)范圍,線性度
CDT 光管 | |
光管類型 | 離軸反射式 |
有效孔徑 | 100 mm (可升級(jí)至200mm) |
焦距 | 1000mm (可調(diào)整) |
光譜范圍 | 0.28-15 ?m |
空間分辨率 | 不低于于100 lp/mrad |
鍍膜 | 保護(hù)鋁膜 |
視場角 | 2.7° (可改裝) |
旋轉(zhuǎn)靶輪 | |
型號(hào) | MRW-8 |
孔位數(shù)量 | 8 |
控制方式 | 電動(dòng)控制,數(shù)字式 |
靶標(biāo) | |
直徑 | 54 mm (孔位直徑) |
標(biāo)準(zhǔn)配置靶標(biāo) | 一組5種對比度USAF靶標(biāo),視場/畸變靶標(biāo),刀口靶標(biāo) |
選配非標(biāo)靶標(biāo) | 4桿靶,針孔靶,輪廓靶 |
光源 | |
有效區(qū)域 | 40 mm |
光源型號(hào) | 氙燈150W |
發(fā)光光譜 | 250-1800nm |
光譜 | 典型氙燈光譜 |
光亮度 | 高于 7000 cd/m2 |
光強(qiáng)調(diào)節(jié)類型 | XE150-A: 手動(dòng)連續(xù)調(diào)整 XE150-B: 電動(dòng)連續(xù)調(diào)整 |
調(diào)節(jié)動(dòng)態(tài)范圍 | XE150-A: >10 000 XE150-B: >1 000 0000 |
是否標(biāo)定 | XE150-A:未標(biāo)定 XE150-B:已標(biāo)定,標(biāo)定單位cd/m2 或W/ m2 |
計(jì)算機(jī) | |
基本信息 | 主流配置計(jì)算機(jī) |
圖像采集卡 | |
可選格式 | 可從中選擇1到2個(gè):模擬視頻, CL, GigE, LVDS, HD-SDI, HDMI |
其他參數(shù) | |
工作溫度 | +5℃ 到 +35℃ |
儲(chǔ)存溫度 | -5℃ 到 50℃ |
電源 | 115-230VAC 50/60Hz |
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