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河南酷斯特儀器科技有限公司
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更新時間:2023-05-29 10:45:57瀏覽次數(shù):304次
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一、KDH-500非自耗真空電弧熔煉爐設(shè)備用途:用于熔煉高熔點金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料
一、 KDH-500非自耗真空電弧熔煉爐設(shè)備用途:
用于熔煉高熔點金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、 KDH-500非自耗真空電弧熔煉爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù):
1、型號:KDH-500
2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置:飛越VRD-30直聯(lián)泵、JTFB-1200分子泵、高真空氣動擋板閥和各種管路真空系統(tǒng)
4、冷態(tài)極限真空度:2.0x10E-4Pa
5、熔煉電流:額定電流≤500A
6、引弧方式:高頻脈沖引弧
7、熔煉坩堝:共有5工位,有3個¢70*35半球形工位窩,***容重(樣品重量)50-130(克),2個¢50*35一個吸鑄工位,一個電磁攪拌工位。帶翻料機構(gòu),可以翻料重熔和轉(zhuǎn)移樣品
8、帶吸鑄工位,容重(樣品重量)50-80(克)吸鑄模具滑配設(shè)計方便拆卸。
9、工作氣體:Ar氣;
10、電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧
11、電極桿和機械手均采用球密封機構(gòu),簡便有效;電極桿電動升降,操作便攜
12、爐體側(cè)部開門,裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便,門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。
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