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更新時(shí)間:2023-03-14 20:25:39瀏覽次數(shù):265次
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真空熔煉爐噴鑄甩帶一體爐高溫合金熔煉爐設(shè)備特點(diǎn)設(shè)備用途: 該設(shè)備主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護(hù)條件下的感應(yīng)熔煉及快冷甩帶成型;適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制
真空熔煉爐噴鑄甩帶一體爐 高溫合金熔煉爐設(shè)備特點(diǎn) 設(shè)備用途:
該設(shè)備主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護(hù)條件下的感應(yīng)熔煉及快冷甩帶成型;適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備。
A· 實(shí)驗(yàn)型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料 B· 采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣,可用于制備大塊非晶材料 結(jié)構(gòu)組成 本設(shè)備主要由真空腔體、熔煉裝置、噴鑄裝置、甩帶裝置、抽真空系統(tǒng)、爐體支架、電氣控制系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)等組成。
一、結(jié)構(gòu)及功能簡(jiǎn)介
采用臥式爐體,側(cè)部開門結(jié)構(gòu),進(jìn)出料方便,爐體結(jié)構(gòu)緊湊,占地空間較小,采用高頻電源加熱,主要供大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料(如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉澆鑄處理,也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。還可進(jìn)行非晶甩帶,噴鑄和壓鑄處理,一臺(tái)設(shè)備,多種功能。
二、技術(shù)參數(shù)
1、每次甩帶、噴鑄合金:50g~300g
2、每次熔煉澆鑄合金:50~1000g
3、高真空室真空度:≤10×10E-3Pa
4、加熱電源功率:25Kw;頻率范圍:30~80KHz
5、可通入氮?dú)?、氬氣等惰性氣體
6、壓鑄:5~10T壓力
7、銅輥直徑:220mm,寬度:40mm
8、銅輥線速度:5~70m/S
9、水流量:3~100L/min
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