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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      日本DNK科研曝光機光刻機圓晶
      
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      參  考  價面議  
      
					                    
      具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
      所  在  地
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
      聯(lián)系方式：黃羅龍查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時間：2023-07-15 13:53:45瀏覽次數(shù)：410次
							
      
							聯(lián)系我時，請告知來自 智能制造網(wǎng)
						
      
				
      
				
			
      
            
						
      
			
      
									
      
                                
      
                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      簡單介紹：                            主要特長除近接曝光外，還可對應(yīng)接觸曝光(軟接觸和硬接觸)可對應(yīng)幅度為500mm以上的大型膠片。采用獨自的光學(xué)系統(tǒng),可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進行一燈式雙面曝光。裝載有自動對位功能。通過特殊照明實現(xiàn)透明材料的對位。除Roll to Roll外可設(shè)計枚葉式搬送等機構(gòu),根據(jù)客戶的需要構(gòu)成裝置?？蛇x擇基板臺溫度控制及掩膜冷卻規(guī)格等。(選購項)
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			                     
                   詳情介紹：         
               
                   
       光刻機介紹 
       
       曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″   
       
       光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW  
       
       曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm  
       
       光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW  
       
       LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″  
       
       光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW  
       
       ?200mm/?150 mm 對應(yīng)曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
       峰值搜索）        
       
       ?300mm對應(yīng)曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈：3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對應(yīng)  
       
       マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
       マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135        
       
       マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50  
       
          
       
       
       主要用途 
       
         
      •  觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機EL、鋰離子電池、太陽能電池、印刷線路板 
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       適合觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機EL用掩膜等膠片形狀基材的曝光機。對應(yīng)Roll to Roll,可實現(xiàn)軟性、薄型、輕量基材的大量生產(chǎn)。 
       
        
         
       
         
               
           
			        
      
			    
      
                			    
      關(guān)鍵詞：觸摸屏  印刷線路板
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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