氧化銦錫光電應(yīng)用納米級(jí)分散機(jī)
ITO導(dǎo)電漿料納米均質(zhì)機(jī)，ito納米均質(zhì)機(jī),是在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液）
ito ITO 是一種N型氧化物半導(dǎo)體-氧化銦錫,ITO薄膜即銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜，通常有兩個(gè)性能指標(biāo):電阻率和透光率作為納米銦錫金屬氧化物，具有很好的導(dǎo)電性和透明性，可以切斷對(duì)人體有害的電子輻射、紫外線及遠(yuǎn)紅外線。因此，銦錫氧化物通常噴涂在玻璃、塑料及電子顯示屏上，用作透明導(dǎo)電薄膜，同時(shí)減少對(duì)人體有害的電子輻射及紫外、紅外。
在氧化物導(dǎo)電膜中，以摻Sn的In2O3(ITO)膜的透過(guò)率zui高和導(dǎo)電性能*，而且容易在酸液中蝕刻出細(xì)微的圖形，其中透光率達(dá)90%以上。ITO中其透光率和阻值分別由In2O3與SnO2之比例來(lái)控制，通常SnO2:In2O3=1:9。因?yàn)檠趸a之厚度超過(guò)200-時(shí)，通常透明度已不夠好---雖然導(dǎo)電性能很好
對(duì)導(dǎo)電漿料的要求，第yi是分散均勻性，如果漿料分散不均，有嚴(yán)重的團(tuán)聚現(xiàn)象，電池的電化學(xué)性能受到影響，如若導(dǎo)電劑分布不均勻，電極在充放電過(guò)程中，各處電導(dǎo)率不同會(huì)發(fā)生不同的電化學(xué)反應(yīng)，負(fù)極處可能產(chǎn)生較復(fù)雜的 SEI膜，可逆容量減小，并伴有局部的過(guò)充過(guò)放現(xiàn)象或有可能會(huì)有鋰金屬析出，形成安全隱患;粘結(jié)劑分布不均，顆粒之間、顆粒與集流體之間粘結(jié)力出現(xiàn)過(guò)大過(guò)小的情況，過(guò)小部位電極內(nèi)阻大，甚至?xí)袅?，zui終影響整個(gè)電池容量的發(fā)揮。第二，漿料需要具有良好的沉降穩(wěn)定性和流變特性，滿足極片涂布工藝的要求，并得到厚度均一的涂層，要求電池極片眾心的厚度要和邊緣處的厚度盡量保持一致，這是導(dǎo)電漿料涂布工藝的難點(diǎn)。
研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號(hào)表供參考：
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
氧化銦錫光電應(yīng)用納米級(jí)分散機(jī)
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