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      行業(yè)產(chǎn)品

      • 行業(yè)產(chǎn)品

      儀思通科技(香港)有限公司/甘沃實(shí)業(yè)(上海)有限公司


      T100摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)2

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      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

      產(chǎn)品型號(hào)T100型摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)

      品       牌

      廠商性質(zhì)其他

      所  在  地

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      更新時(shí)間:2022-10-12 15:42:51瀏覽次數(shù):93次

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      產(chǎn)品簡(jiǎn)介

      美國(guó)NANOVEA公司的T100型摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)是一款多功能的摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)設(shè)備,可在一臺(tái)設(shè)備上實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn),線性往復(fù),環(huán)-塊,環(huán)-環(huán)四種工作模式,同時(shí)具有原位磨損率測(cè)量模塊,高溫模塊,低溫模塊,濕度模塊,膜厚測(cè)量模塊,氣氛模塊,潤(rùn)滑模塊,真空模塊,電化學(xué)腐蝕摩擦模塊,光學(xué)顯微鏡,聲發(fā)射模塊等多種模塊可供選擇,是科研客戶及工業(yè)客戶的理想選擇。該儀器除了能得到摩擦系數(shù)及摩擦力外,還可自動(dòng)得到磨損率,磨損......

      詳細(xì)介紹

      一、產(chǎn)品特性:


      1、可在同一儀器上實(shí)現(xiàn)多種測(cè)量功能,真正意義上的摩擦磨損測(cè)試;

      2、符合ASTM3702,ASTM G99與ASTM G133等國(guó)際標(biāo)準(zhǔn);

      3、用于高**進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)摩擦系數(shù)曲線;

      4、有旋轉(zhuǎn),線性往復(fù),環(huán)-塊,環(huán)-環(huán)四種工作模式;

      5、采用位置譯碼器與速度譯碼器可**控制馬達(dá)控制速度與位置;

      6、可測(cè)量靜摩擦系數(shù)及Stribeck曲線;

      7、*大載荷:100N;

      8、轉(zhuǎn)度:0.01-5000rpm,15000rpm可選;

      9、密封式裝置,可以控制環(huán)境,如:氣體、濕度、潤(rùn)滑等;

      10、高溫模式選件,*高可測(cè)1100℃環(huán)境下的摩擦磨損;

      11、實(shí)時(shí)接觸電阻測(cè)量選件可提供接觸電阻測(cè)試

      12、表面形貌測(cè)試模塊選件用于測(cè)量磨損率,磨損前后二維表面形貌、磨損面積、磨損率、磨損深度、平整度、線粗糙度參數(shù)(Ra,Rp,Rv,Rz,Rc, Rt,Rq,Rsk,Rku,)等表面參數(shù)

      13、原位電化學(xué)工作站選件,搭配普林斯頓的電化學(xué)工作站進(jìn)行摩擦腐蝕方向的研究。

      14、真空模塊選件,可實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的摩擦磨損測(cè)試。

      15、低溫模塊選件,可實(shí)現(xiàn)低溫-150℃下的摩擦磨損測(cè)試



      二、產(chǎn)品應(yīng)用



      半導(dǎo)體技術(shù):

      ·鈍化層

      ·金屬涂敷

      ·焊墊

      醫(yī)療:

      ·藥片

      ·植入物

      ·生物組織

      光學(xué)元件:

      ·棱鏡


      ·光纖

      ·光學(xué)元件涂層

      ·高容量光存儲(chǔ):

      ·磁盤(pán)涂層

      ·CD涂層

      ·薄膜

      耐磨材料涂層:

      ·TiN, TiC, DLC

      ·切削工具

      工程:

      ·橡膠

      ·觸摸屏

      ·涂層

      微電子器件系統(tǒng)

      裝潢金屬涂層

      汽車(chē):

      ·噴漆涂層

      ·玻璃印刷層

      ·汽車(chē)精加工部件

      三、技術(shù)參數(shù)

      主機(jī)參數(shù):

      參數(shù)

      旋轉(zhuǎn)模式

      載荷范圍

      50mN-100N

      載荷分辨率

      6μN(yùn)

      旋轉(zhuǎn)速度

      0.01-5000rpm/0.05-15000rpm

      *大扭矩

      4.4Nm

      *大摩擦力

      +/-100N

      摩擦力分辨率(理論)

      6μN(yùn)

      X軸自動(dòng)控制范圍

      50mm

      X軸半徑分辨率

      2.5μm

      儀器尺寸

      65cm×52cm×65cm

      重量

      70Kg

      盤(pán)尺寸

      100mm

      接觸探頭

      可選針型、球形與銷(xiāo)型

      線性往復(fù)模式

      *大振幅

      25mm

      *大掃描頻率

      60Hz@5mm沖程

      潤(rùn)滑控制系統(tǒng)(可選)

      液體消耗率

      60-90cm3/hour

      液體容量

      120ml

      液體容器

      包含

      高溫測(cè)量系統(tǒng)(可選)

      箱體溫度(旋轉(zhuǎn)模式)

      1100

      加熱片(線掃描模式)

      800

      液體加熱模式

      150

      分辨率

      1

      低溫模塊(可選)

      -40/-150

      深度傳感器(可選)

      *大位移量

      2000μm

      分辨率

      0.1nm

      接觸電阻(可選)

      *大阻抗

      0-1000 Ohms


      表面形貌儀模塊技術(shù)參數(shù):

      NANOVEA公司提供兩種光學(xué)測(cè)量探頭可供用戶選擇:

      EP110(用于磨損較淺的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下:

      1) Z方向測(cè)量范圍:100μm

      2) Z方向測(cè)量分辨率:20nm

      3) Z方向測(cè)量精度:50nm

      4)橫向光學(xué)分辨率:3μm

      5)光斑直徑:6μm

      6)工作距離:1mm

      EP1500(用于磨損較深的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下:

      1) Z方向測(cè)量范圍:1.5mm

      2) Z方向測(cè)量分辨率:200nm

      3) Z方向測(cè)量精度:300nm

      4)橫向光學(xué)分辨率:3.5μm

      5)光斑直徑:7μm

      6)工作距離:2.3mm




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