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深圳華普通用科技有限公司
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日本理學(xué)連續(xù)波長色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400-華普通用
暫無信息 |
簡要描述: Rigaku ZSX Primus 400 連續(xù)波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀為處理非常大或重的樣品而設(shè)計
Rigaku 的 ZSX Primus 400 連續(xù)波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀為處理非常大或重的樣品而設(shè)計。該系統(tǒng)可接受直徑大為 400 毫米、厚度為 50 毫米和質(zhì)量為 30 千克的樣品,非常適合分析濺射靶材、磁盤,或用于多層薄膜計量或大型樣品的元素分析。
優(yōu)點(diǎn)
帶有定制樣品適配器系統(tǒng)的 XRF,適應(yīng)特定樣品分析需求的多功能性,可使用可選適配器插件適應(yīng)各種樣品尺寸和形狀。憑借可變測量點(diǎn)(直徑 30 毫米至 0.5 毫米,具有 5 步自動選擇)和具有多點(diǎn)測量的映射功能以檢查樣品均勻性。
具有可用相機(jī)和特殊照明的 XRF,可選的實(shí)時攝像頭允許在軟件中查看分析區(qū)域。
仍保留了傳統(tǒng)儀器的所有分析能力。
安全性
采用上照射設(shè)計,樣品室可簡單移出,再不用擔(dān)心污染光路,清理麻煩和增加清理時間等問題。
固體、液體、粉末、合金和薄膜的元素分析:
濺射靶材組成.
隔離膜:SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si₃N₄、SiOF、SiON等。
高 k 和鐵電介質(zhì)薄膜:PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx
金屬薄膜:Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiN、TaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。
電膜:摻雜多晶硅(摻雜劑:B、N、O、P、As)、非晶硅、WSix、Pt等。
其他摻雜薄膜(As、P)、困惰性氣體(Ne、Ar、Kr等)、C(DLC)
鐵電薄膜、FRAM、MRAM、GMR、TMR;PCM、GST、GeTe
焊料凸點(diǎn)成分:SnAg、SnAgCuNi
MEMS:ZnO、AlN、PZT的厚度和成分
SAW器件工藝:AlN、ZnO、ZnS、SiO 2(壓電薄膜)的厚度和成分;Al、AlCu、AlSc、AlTi(電膜)
大樣本分析:大 400 毫米(直徑),大 50 毫米(厚度),高達(dá) 30 千克(質(zhì)量)
樣品適配器系統(tǒng),適用于各種樣本量
測量點(diǎn):30 毫米至 0.5 毫米直徑,5步自動選擇
映射能力,允許多點(diǎn)測量
樣品視圖相機(jī)(可選)
分析范圍:Be - U
元素范圍:ppm 至 %
厚度范圍:sub Å 至 mm
衍射干擾抑制(可選):單晶襯底的準(zhǔn)確結(jié)果
符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn):SEMI、CE標(biāo)志
占地面積小,以型號的 50% 占地面積
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