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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
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      沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD
      
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      參  考  價(jià)面議  
      
					                    
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號(hào)
      
							
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      廠商性質(zhì)其他
      
		                    							
      所  在  地沈陽(yáng)市
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
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								更新時(shí)間：2023-03-01 12:28:11瀏覽次數(shù)：172次
							
      
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      經(jīng)營(yíng)模式：其他
      
						
      商鋪產(chǎn)品：912條
      
						
      所在地區(qū)：遼寧沈陽(yáng)市
      
						
      聯(lián)系人：經(jīng)理
      												
					
      
				
      
			
      			
      
                                
      
                    產(chǎn)品簡(jiǎn)介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			             
       產(chǎn)品簡(jiǎn)介：1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD主要適用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀、VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀，該磁控濺射頭可安裝直徑為1"的靶材?？膳c直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，因此可濺射各種靶材，如金屬靶材（如金、銀、銅等材料）、絕緣靶材（如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等）、磁性靶材、非磁性靶材等。且采用高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可提高鍍膜質(zhì)量。1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上，以保證濺射鍍膜的效率和薄膜在樣品表面分布的均勻性。
       
        
       
        
        
       產(chǎn)品型號(hào)
             		  
       1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD
             		 
       
        
       主要特點(diǎn)
             		  
       1、采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作。
       
       2、采用電磁場(chǎng)的有元計(jì)算法來(lái)設(shè)計(jì)永磁體，以得到較高的磁場(chǎng)強(qiáng)度和均勻分布。
       
       3、磁體表面涂有保護(hù)層，以防止冷卻水的腐蝕，延長(zhǎng)其使用壽命。
       
       4、標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配。
       
       5、安裝采用標(biāo)準(zhǔn)真空接頭，便于操作。
       
       6、靶材更換較為簡(jiǎn)單，無(wú)需調(diào)整濺射頭的高度。
       
       7、配有銅靶1塊。
             		 
       
        
       技術(shù)參數(shù)
             		  
       1、濺射頭直徑：Ø46.3mm
       
       2、所用靶材：直徑1"±0.02"（25.4mm），厚度1/8"（3mm）        
       
       3、磁環(huán)：NdFeB稀土永磁體
       
       4、柄桿直徑：外徑3/4"
       
       5、電路接頭：標(biāo)準(zhǔn)HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配
       
       6、所需功率：DC250W，RF100W
       
       7、陰極濺射電流：3A
       
       8、陰極濺射電壓：200V-1000V
       
       9、工作壓力范圍：1mtorr-1torr
       
       10、濺射厚度均勻性：采用磁控濺射在氧化非晶硅片上沉積一個(gè)20nm的薄膜，直流功率150W，真空環(huán)境
       
                                              10mtorr，1"銅靶，與基片距離75mm
       
                                               
       
       11、水冷卻：水管接頭為外徑0.25"快插頭，所需水流量1/2GPM，進(jìn)水溫度<20℃
       
                               
       
       12、高真空快速接頭：為贈(zèng)送品，數(shù)量1個(gè)，內(nèi)徑為0.75"，可將濺射頭安裝在真空腔體上，真空腔體上的安裝
       
       　　　　　　　　　    孔直徑為1"，真空腔體的壁厚不得大于1"
       
                                                 
       
       13、傾斜裝置：濺射頭相對(duì)于柄桿可傾斜±45?，設(shè)有刻度線，可觀察到靶頭傾斜的角度
       
       　                           
             		 
       
        
       產(chǎn)品規(guī)格
             		  
       尺寸：14"（355.6mm）；重量：1.36kg
             		 
       
        
       可選配件
             		  
       1、循環(huán)水冷機(jī)，流量為16L/min，水箱容積為6L。
       
       2、100W小型手動(dòng)匹配型射頻電源RF-100-LD，可自行搭建濺射鍍膜儀。
             		 
       
        
       主要應(yīng)用
             		  
       在真空腔體中HVMSS-SPC-1-LD磁控濺射頭可制作各種薄膜，應(yīng)用如下：
       
       薄膜涂覆、半導(dǎo)體器件、磁記錄介質(zhì)、超導(dǎo)薄膜、量子計(jì)算器件、MEMS、生物傳感器、納米技術(shù)、超晶格、顆粒膜、記憶合金、組合薄膜沉積、光學(xué)薄膜
             		 
              
       
			        
      
			    
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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