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      南京諾旭微光電有限公司


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      紅外光晶圓檢查顯微鏡

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      產(chǎn)品型號

      品       牌

      廠商性質(zhì)其他

      所  在  地南京市

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      更新時間:2023-02-24 14:50:15瀏覽次數(shù):713次

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      產(chǎn)品簡介

      紅外顯微鏡(OLYMPUSBX53M-IR/MX63-IR)★紅外線紅外線(Infrared)是波長介于微波與可見光之間的電磁波,波長在760納米(nm)至1毫米(mm)之間

      詳細(xì)介紹

       

      紅外顯微鏡(OLYMPUS BX53M-IR / MX63-IR)


      紅外線
      紅外線(Infrared)是波長介于微波與可見光之間的電磁波,波長在760納米(nm)至1毫米(mm)之間。
      紅外線特點
      任何溫度高于零度的物體都會發(fā)射紅外輻射,紅外線的產(chǎn)生機制是物體內(nèi)的分子振動,通常將紅外光譜分為三個區(qū)域:近紅外區(qū)(0.75~2.5μm)、中紅外區(qū)(2.5~25μm)和遠(yuǎn)紅外區(qū)(25~300μm)。一般說來,近紅外光譜是由分子的倍頻、合頻產(chǎn)生的;中紅外光譜屬于分子的基頻振動光譜;遠(yuǎn)紅外光譜則屬于分子的轉(zhuǎn)動光譜和某些基團的振動光譜。
      紅外線作為電磁波,具有普通電磁波的一般特性,同時又有一些紅外波段的特性,諸如穿透性,熱效應(yīng),指紋區(qū)特性等,紅外線的應(yīng)用主要是利用紅外線的這些特性達到無損檢測的目的。
      近紅外線:紅外成像(類似于可見光成像,但具有一定的穿透性)
      中紅外線:紅外光譜分析(官能團區(qū)4000~1330cm-1,指紋區(qū)1330~400cm-1)
      遠(yuǎn)紅外線:紅外熱成像,紅外理療,夜視儀,光波爐
      注:本報告重點介紹近紅外成像技術(shù)的應(yīng)用
      紅外顯微成像
      紅外顯微成像通常采用800nm波長的紅外線作為光源,其成像原理與可見光成像一樣,只是人眼無法識別紅外波段光線,需借助CCD相機成像后才能觀察。紅外顯微成像的基本組成單元如下:
      光源:寬譜紅外光源,可增加不同波段濾色片
      物鏡:按使用需求配置不同放大倍率的紅外物鏡
      紅外相機:1000nm波長以下波段紅外線普通CCD即可成像。
      顯示器:無特殊要求。
      劣勢:無法呈現(xiàn)彩色照片
      產(chǎn)品采樣方法
      1、透射法
      透射分析是指檢測通過樣品的能量,是不被樣品吸收的那一部分,即就是指透過的那部分能量。能量被物鏡聚焦在樣品上方,在樣品下方被聚光器采集。然后到達檢測器,從而得到紅外光譜圖。
      考慮 透射樣品的制備在通常要求樣品是扁平的或被切割成非常薄的形狀。感興趣區(qū)域的光譜強度的譜帶應(yīng)小于0.7吸光度單位,以防止紅外檢測器飽和。
      2、反射法
      反射分析是一種簡單的光學(xué)技術(shù),這其中涉及樣品反射的紅外光。在此模式下,物鏡將紅外光聚焦在樣品表面,從樣品表面反射回來的紅外光被檢測器采集,從而得到反射紅外光譜圖。
      圓滑而有光澤的表面就會發(fā)生鏡面反射,檢測器檢測到的能量高,但由于沒有帶有樣品信息,從而得到的紅外譜圖也不理想粗糙的表面時,就會發(fā)生漫反射,這樣反射到檢測器能檢測到的紅外能量將會很小,從而得到的紅外譜圖也不理想。
      市場應(yīng)用分析 :
      1、光刻后對位檢查
      該應(yīng)用需求是基于3D封裝中背面光刻檢查而提出的,晶圓減薄,鍵合后在晶圓背面進行光刻,此時如果使用可見光無法穿透硅片看到硅片正面的對準(zhǔn)標(biāo)記,紅外線的穿透能力恰好可以滿足對200-1200um厚度硅片的穿透成像,這樣可以同時看到硅片正面和背面的圖形,通過這種方式即可檢查正面和背面圖形的對位誤差。鍵合片的對位檢查原理同上。

      2、 FC倒裝芯片中的缺陷檢查
      Flip chip又稱倒裝片,是在I/O pad上沉積錫鉛球,然后將芯片翻轉(zhuǎn)加熱利用熔融的錫鉛球與陶瓷基板相結(jié)合此技術(shù)替換常規(guī)打線接合,逐漸成為未來的封裝主流,當(dāng)前主要應(yīng)用于高時脈的CPU、GPU(GraphicProcessor Unit)及Chipset等產(chǎn)品為主。表面貼裝以后可見光無法檢查,采用紅外顯微鏡就可以檢測芯片bumping與基板的焊接是否有虛焊或短路、斷路等缺陷。

      3、 應(yīng)用圖例

      芯片封裝的不佳狀況無損分析 CSP/SIP的非破壞檢查
         
      MEMS器件近紅外檢測 倒裝芯片標(biāo)記點對準(zhǔn)檢查


      紅外顯微鏡廠家:
      1、 Olympus紅外顯微鏡
      設(shè)備型號:Olympus MX63-IR
      光源:光源分頂部和底部光源,底部是一個紅外冷光源,型號NPI PLL150/NIR 15V/150W SK2。頂部未打開,但頂部光源應(yīng)該是寬譜光源,在照明光路中有一塊濾色塊,插入即可實現(xiàn)紅外成像,拔出為可見光成像
      濾色片:頂部U-BP1100IR,U-25LBD,底部:U-POIR.
      物鏡:物鏡配置了5X/0.1,10X/0.3,20X/0.45,50X/0.65 IR四種,20和50倍物鏡透過硅厚度可調(diào)(0-1.2mm)。
      目鏡:目鏡是10X22視場的普通目鏡。
      CCD相機:CCD相機型號XM10-IR,德國產(chǎn)紅外相機。
      CTV:U-TV1XC,sn:5H01086
      其他配置:偏光和DIC功能有接口但未配置,客戶反饋不會用到該功能,帶離合手柄,X&Y平臺移動旋鈕,電動物鏡切換。

       

       

       

       

      關(guān)鍵詞:顯微鏡 CCD 顯示器

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