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      太倉希德機械科技有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      微納米級頭孢混懸液膠體磨
      
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      參  考  價面議  
      
					                    
      具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號XMD
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
      
		                    							
      所  在  地蘇州市
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
      聯(lián)系方式：陸經(jīng)理查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時間：2022-08-11 17:07:45瀏覽次數(shù)：157次
							
      
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                    產(chǎn)品簡介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      微納米級頭孢混懸液膠體磨為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			            
      微納米級頭孢混懸液膠體磨
      一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞
      超細(xì)頭孢混懸液高速研磨機，口服混懸液研磨分散機，頭孢混懸液高速研磨機，醫(yī)藥級混懸液研磨機，*混懸液高速研磨機，安達*混懸液高速研磨機，布*混懸液高速研磨機，*混懸液高速研磨機，*混懸液高速研磨機，*混懸液高速研磨機，*混懸液高速研磨機
      二、研磨分散機的簡介
      研磨分散機設(shè)計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。 
      XMD2000超細(xì)頭孢混懸液高速研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
       
       
      三、混懸液藥劑的簡介
      混懸液藥劑是指難溶性固體***以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非勻相的液體藥劑。對于混懸液藥劑的制備有嚴(yán)格的規(guī)定：***本身的化學(xué)性質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定，在使用或貯存期間含量應(yīng)符合要求；混懸劑中微粒大小根據(jù)用途不同而有不同要求；粒子的沉降速度應(yīng)很慢、沉降后不應(yīng)有結(jié)塊現(xiàn)象，輕搖后應(yīng)迅速均勻分散；混懸劑應(yīng)有一定的粘度要求；外用混懸劑應(yīng)容易涂布等。
       
      四、混懸劑穩(wěn)定性影響因素：
      1.粒子沉降----通過stokes沉降方程可知，粒子半徑越大，介質(zhì)粘度越低，沉降速度越快，為保持穩(wěn)定，應(yīng)減小微粒半徑，或增加介質(zhì)粘度（助懸劑）。
      2.荷電與水化膜-----雙電層與水化膜能保持粒子間斥力，有助于穩(wěn)定，如雙電層zeta電位降低，或水化膜破壞，則粒子發(fā)生聚沉，電解質(zhì)容易破壞zeta電位和水化膜。
      3.絮凝與反絮凝----適當(dāng)降低zeta電位，粒子發(fā)生松散聚集，有利于混懸劑穩(wěn)定，能形成絮凝的物質(zhì)為絮凝劑。
      4.結(jié)晶-----放置過程中微粒結(jié)晶，結(jié)晶成長，形成聚沉。
      5.分散相溫度-----溫度降低使布朗運動減弱,降低穩(wěn)定性，故應(yīng)保持合適的溫度。
      若要制得沉降緩慢的混懸液，應(yīng)減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。加入表面活性劑可以降低界面自由能，使系統(tǒng)更加穩(wěn)定，而且表面活性劑由可以作為潤濕劑，可有效的解決疏水性***在水中的聚集。顆粒的絮凝與其表面帶電情況有關(guān)，若加入適量的絮凝劑（電解質(zhì)）使顆粒ζ電位降至一定程度，微粒就發(fā)生絮凝，混懸劑相對穩(wěn)定，絮凝沉淀物體積大，振搖后易再分散，加入反絮凝劑（電解質(zhì)）可以增加已存在固體表面的電荷，使這些帶電的顆粒相互排斥而不致絮凝。  
      五、研磨分散機的工藝
      超細(xì)頭孢混懸液高速研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
       
             
       
      六、XMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
      型號 流量L/H 轉(zhuǎn)速rpm線速度m/s功率kw入/出口連接DN
      XMD2000/4 300 18000 514 DN25/DN15
      XMD2000/5     1000 14000 5111 DN40/DN32
      XMD2000/10 2000 9200 5122 DN80/DN65
      XMD2000/20 5000  2850 5137 DN80/DN65
      XMD2000/30 8000 1420 5155 DN150/DN125
      流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。
      微納米級頭孢混懸液膠體磨
      
			        
      
			    
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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