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      行業(yè)產(chǎn)品
      
							
						
      
						
        
							
      • 行業(yè)產(chǎn)品
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      北京精科智創(chuàng)科技發(fā)展有限公司
                                
                
                
      

							
      
                        			
      
		
      
	
      
	
	
      
		
      
            
      
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      WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置
      
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      參  考  價(jià)面議  
      
					                    
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      
				
      
				
				
      
						
      
							
      產(chǎn)品型號(hào)
      
							
      品       牌
      
		                    
      廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
      
		                    							
      所  在  地北京市
      
						
      
                        
                    
      
					 							        										
      聯(lián)系方式：謝偉華查看聯(lián)系方式
      
									                                                 
      
						
      
							
      
								更新時(shí)間：2022-08-19 17:17:43瀏覽次數(shù)：298次
							
      
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      經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠家
      
						
      商鋪產(chǎn)品：91條
      
						
      所在地區(qū)：北京北京市
      
						
      聯(lián)系人：謝偉華 （經(jīng)理）
      												
					
      
				
      
			
      			
      
                                
      
                    產(chǎn)品簡(jiǎn)介
                
      
				
      
                      
      
                                                                      
      
					
      WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是一種特殊設(shè)計(jì)的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測(cè)試精度，要求整個(gè)吸盤表面各點(diǎn)的溫度控制在設(shè)定溫度±1℃的范圍內(nèi)，Z大可以達(dá)到±0.03℃，是目前研究晶圓半導(dǎo)體重要輔助工具。
      
				
      
				
      
                    詳細(xì)介紹
                
      
			    
      
			        
      
			            
      WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置

      關(guān)鍵詞：晶圓，均勻，6寸

      晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片，其形狀為圓形；晶圓高溫測(cè)試是集成電路行業(yè)一道重要制程，通過(guò)嚴(yán)格的高溫測(cè)試可以預(yù)先剔除不良芯片，降低后續(xù)高昂的封裝成本。WSHD-600型晶圓均勻加熱裝置是一種特殊設(shè)計(jì)的均勻加熱裝置。為保證晶圓高溫測(cè)試精度，要求整個(gè)吸盤表面各點(diǎn)的溫度控制在設(shè)定溫度±1℃的范圍內(nèi)，Z大可以達(dá)到±0.03℃，是目前研究晶圓半導(dǎo)體重要輔助工具。
      主要技術(shù)參數(shù);
      1、溫度：室溫-200℃，650℃，1000℃，
      2、加熱速率：40℃/min,
      3、加熱臺(tái)尺寸：6寸，8寸，12寸等可以定制
      4、控溫精度：±1 ℃
      5、加熱溫度均勻度允許誤差：±1℃ 
      6、加熱臺(tái)需可抗壓：100KN
      7、可配合各種電學(xué)測(cè)試設(shè)備進(jìn)行電學(xué)數(shù)據(jù)功能采集
      8、表面處理：鍍膜，鍍金或是黑礬石
      9、熱臺(tái)材質(zhì)：不銹鋼或銅
      10、可以配合各種電學(xué)測(cè)試系統(tǒng)及探針測(cè)試

                     6寸晶圓在不同溫度下均勻性

      
			        
      
			    
      
                                                				
			
      
			
      
		
      
	
      
	
    
      
		
      
			
      
				
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