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      第二代半導(dǎo)體材料全自動(dòng)清洗機(jī)

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      更新時(shí)間:2020-10-26 11:10:06瀏覽次數(shù):502次

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      產(chǎn)品簡(jiǎn)介

      第二代半導(dǎo)體材料全自動(dòng)清洗機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì),廣泛應(yīng)用于集成電路領(lǐng)域,*的清洗工藝有效去除了晶片表面的細(xì)微顆粒物、金屬殘留、光刻膠殘留物等問(wèn)題。高精度全自動(dòng)配藥系統(tǒng),可針對(duì)不同工藝要求對(duì)藥液比例精準(zhǔn)配比。

      詳細(xì)介紹

      第二代半導(dǎo)體材料全自動(dòng)清洗機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì),廣泛應(yīng)用于集成電路領(lǐng)域,*的清洗工藝有效去除了晶片表面的細(xì)微顆粒物、金屬殘留、光刻膠殘留物等問(wèn)題。高精度全自動(dòng)配藥系統(tǒng),可針對(duì)不同工藝要求對(duì)藥液比例精準(zhǔn)配比。

      設(shè)備介紹

      1、設(shè)備用途:用于硅、藍(lán)寶石、GaAs晶片清洗及烘干工藝。

      2、適用工藝:集成電路領(lǐng)域:膜前清洗、去膠清洗、外延前清洗。

      3、槽體布局:?jiǎn)闻攀畚弧?/span>

      4、清洗能力:5min/100片。

      5、自動(dòng)化程度:工藝過(guò)程自動(dòng)/手動(dòng)可切換控制。

      設(shè)備特點(diǎn)

      • 兼容8寸,12寸Wafer清洗
      • 自動(dòng)配液系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)不同濃度精確配比
      • 支持多任務(wù)并行處理
      • 模塊化設(shè)計(jì)
      • 結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小
      • 維護(hù)成本低
      • 潔凈等級(jí)符合 ISO Class 1標(biāo)準(zhǔn)

      關(guān)鍵詞:自動(dòng)清洗機(jī)

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