光氧催化凈化產(chǎn)品技術(shù)原理 ：

1.本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

2 .利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。 UV＋O2→O- O＊（活性氧）O O2→O3（臭氧）,*臭氧對(duì)有機(jī)物具有*的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。

3. 惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。

4.運(yùn)行成本低：本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專人 管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能低耗，（每處理1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0.2度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低＜50Pa，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
     5.無(wú)需預(yù)處理：惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，，如加溫，加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏－30℃－95℃之間，溫度在30%－98%，PH值在2－13之間均可正常工作。

6.利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的．

適用范圍：

煉油廠、橡膠廠、皮革廠、印刷廠、化工廠、中西藥廠、金屬鑄造廠、塑料再生廠、噴涂溶劑等有機(jī)和無(wú)機(jī)物惡臭氣體的脫臭凈化處理、餐飲業(yè)、噴漆車間、油墨印刷、噴涂車間、化工、醫(yī)藥、橡膠、食品、印染、、造紙、釀造等生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的有毒有害廢氣。

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    ： 廖小蘭   

    號(hào)： 廖小蘭

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    備注：產(chǎn)品可依客戶不同工作環(huán)境需求設(shè)計(jì)制作。產(chǎn)品不斷改良，當(dāng)外觀與參數(shù)變更時(shí)尚，均以實(shí)樣為準(zhǔn)