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上海思峻研發(fā)的一體化研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。該設備是由SGN/思峻膠體磨在原來立式分體結構基礎上進行進一步改造，配合運轉平穩(wěn)的精密零部件，使其工作噪音降低到73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。并且在膠體磨的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，并加入了一級分散盤。

（公司有樣機供參觀試驗，： ）

GMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對有一定粘稠度物料，該設備設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

二、本設備在設計上的突出優(yōu)點在于：

1.可更換式加工模塊，實現(xiàn)分散、均質、乳化、懸浮、濕磨、 粉液混合等多種功能。
2.專為實驗室模擬工業(yè)管線式生產而設計，從中試到生產，無需重新調整工藝參數(shù) 。
3.雙端面機械密封，可以實現(xiàn)連續(xù)24小時不間斷運轉。
4.可配置變頻控制柜，調節(jié)轉速及流量 。
5.拆卸方便，容易清洗。
6.設備設計合理，方便實用。 

特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不單單是轉子齒的排列，還有一個重要的區(qū)別是：不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

三、研磨、分散、均質、乳化一體機的特點：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念，將*的技術與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設備結構設計中，為設備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術 采用*的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

四、GMD2000系列的結構：

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

五、設備其他參數(shù)：

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

 六、設備選型表： 

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信息來源：www.sgnprocess。。ｃｎ