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詳細(xì)介紹
離子去膠機(jī)，等離子表面處理機(jī)簡介
等離子去膠機(jī)的真空腔采用石英管結(jié)構(gòu)，適于對(duì)基片進(jìn)行去膠、清洗等工藝。該設(shè)備具有去膠工藝簡單、可靠、*、速率快、成品率高、處 理后無酸氣廢水等殘留等特點(diǎn)。等離子表面處理機(jī)采用國頻源，其電磁兼容性能優(yōu)良、高頻輻射小，符合國家環(huán)保規(guī)定。本機(jī)外形美觀大方，操作簡便。
等離子去膠機(jī)，等離子表面處理機(jī)主要配置及技術(shù)指標(biāo)：
l、電源：單相220V 50Hz，2KW
2、射頻源：國產(chǎn)， f=13.56MHz 50～500W連續(xù)可調(diào)，全自動(dòng)匹配
3、氣體控制：氧氣和氮?dú)鈿鈨陕?，美國進(jìn)口浮子流量計(jì)控制
4、真空獲得方式：2L機(jī)械泵
5、真空度：優(yōu)于-100KPa
6、氣體流量：0～5L/min
7、真空腔：石英腔。尺寸：￠200X300mm
8、產(chǎn)能：每次20片（2"-4"）
9、觸摸屏+PLC控制
l0、控制方式：自動(dòng)/手動(dòng)，自動(dòng)模式下可實(shí)現(xiàn)一鍵完成整個(gè)工藝過程
l1、整機(jī)采用松下plc和觸摸屏控制
12、反射自動(dòng)匹配
a、負(fù)荷電流：10ARMS
b、負(fù)荷電壓：200VRMS
c、傳輸效率：>90％
d、匹配時(shí)間：3～5s
e、可匹配阻抗實(shí)部范圍：1～500Ω
f、可匹配阻抗虛部范圍：－j200～＋j200
g、主電容：空氣電容
等離子去膠機(jī)的真空腔采用石英管結(jié)構(gòu)，適于對(duì)基片進(jìn)行去膠、清洗等工藝。該設(shè)備具有去膠工藝簡單、可靠、*、速率快、成品率高、處 理后無酸氣廢水等殘留等特點(diǎn)。等離子表面處理機(jī)采用國頻源，其電磁兼容性能優(yōu)良、高頻輻射小，符合國家環(huán)保規(guī)定。本機(jī)外形美觀大方，操作簡便。
等離子去膠機(jī)，等離子表面處理機(jī)主要配置及技術(shù)指標(biāo)：
l、電源：單相220V 50Hz，2KW
2、射頻源：國產(chǎn)， f=13.56MHz 50～500W連續(xù)可調(diào)，全自動(dòng)匹配
3、氣體控制：氧氣和氮?dú)鈿鈨陕?，美國進(jìn)口浮子流量計(jì)控制
4、真空獲得方式：2L機(jī)械泵
5、真空度：優(yōu)于-100KPa
6、氣體流量：0～5L/min
7、真空腔：石英腔。尺寸：￠200X300mm
8、產(chǎn)能：每次20片（2"-4"）
9、觸摸屏+PLC控制
l0、控制方式：自動(dòng)/手動(dòng)，自動(dòng)模式下可實(shí)現(xiàn)一鍵完成整個(gè)工藝過程
l1、整機(jī)采用松下plc和觸摸屏控制
12、反射自動(dòng)匹配
a、負(fù)荷電流：10ARMS
b、負(fù)荷電壓：200VRMS
c、傳輸效率：>90％
d、匹配時(shí)間：3～5s
e、可匹配阻抗實(shí)部范圍：1～500Ω
f、可匹配阻抗虛部范圍：－j200～＋j200
g、主電容：空氣電容
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