PLC 工控機(jī) 嵌入式系統(tǒng) 人機(jī)界面 工業(yè)以太網(wǎng) 現(xiàn)場總線 變頻器 機(jī)器視覺 DCS PAC/PLMC SCADA 工業(yè)軟件 ICS信息安全 應(yīng)用方案 無線通訊
青島兆星環(huán)保設(shè)備有限公司
產(chǎn)品型號ZX-UV-0.6
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地青島市
聯(lián)系方式:李女士查看聯(lián)系方式
更新時間:2020-03-06 20:35:05瀏覽次數(shù):954次
聯(lián)系我時,請告知來自 智能制造網(wǎng)暫無信息 |
uv光催化氧化設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu)。使有機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。
uv光催化氧化設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu)。使有機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。
工作原理
uv光催化氧化設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體的分子鏈結(jié)構(gòu)。使有機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,如CO2、H2O等。
兆星uv光催化氧化設(shè)備特點
一、除惡臭:能去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效率更高可達(dá)99%以上,脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93).
二、無需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力,使惡臭氣體通過本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化,無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
三、適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理,可每天24小時連續(xù)工作,運行穩(wěn)定可靠。
四、運行成本低:本設(shè)備無任何機(jī)械動作,無噪音,無需專人管理和日常維護(hù),只需作定期檢查,本設(shè)備能耗低,(每處理1000立方米/小時,僅耗電約0.2度電能),設(shè)備風(fēng)阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。
五、無需預(yù)處理:惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃-95℃之間,濕度在30%-98%、PH值在2-13之間均可正常工作。
六、設(shè)備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件,設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。
七、進(jìn)口材料制造:防火、防爆、防腐蝕性能高,設(shè)備性能穩(wěn)定,采用碳鋼材質(zhì),設(shè)備使用壽命長。
應(yīng)用范圍
uv光催化氧化設(shè)備適用范圍:煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
商鋪:http://towegas.com/st206222/
主營產(chǎn)品:廢氣凈化一體機(jī),低溫等離子凈化器,uv光解凈化設(shè)備,活性炭吸附塔,噴淋塔,除塵器,RTO蓄熱式燃燒爐,TO直燃式焚燒爐,RCO蓄熱式催化氧化爐,CO催化燃燒
智能制造網(wǎng) 設(shè)計制作,未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
請輸入你感興趣的產(chǎn)品
請簡單描述您的需求
請選擇省份
聯(lián)系方式
青島兆星環(huán)保設(shè)備有限公司