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      上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司

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      光觸媒研磨分散機(jī)
      參考價(jià): 面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • 產(chǎn)品型號
      • 品牌
      • 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
      • 上海市 所在地

      訪問次數(shù):314更新時(shí)間:2019-06-07 19:31:12

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      劉先生

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      產(chǎn)品簡介
      光觸媒研磨分散機(jī),SGN研磨分散機(jī)是高剪切膠體磨+高剪切分散機(jī)的設(shè)備,將兩者一體化,解決了時(shí)間差的問題,因?yàn)槲锪蠄F(tuán)聚是一個(gè)瞬間的過程,研磨后立即分散,效果好,效率高。
      產(chǎn)品介紹

      光觸媒研磨分散機(jī),納米光觸媒分散機(jī),光觸媒分散機(jī),納米*分散機(jī),光觸媒超細(xì)分散機(jī),納米分散機(jī)

       

      光觸媒是一種以納米級*為代表的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱。在所有的光觸媒材料中,納米TiO2不僅具有很高的光催化活性,且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無毒等優(yōu)點(diǎn),價(jià)格也適中,具有較高的性價(jià)比,因而市場上大多使用納米*作為主要原材料。 


      對于納米級物料的分散,容易出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象,納米*的分散也不例外。團(tuán)聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個(gè)顆粒形成較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。由于團(tuán)聚顆粒粒度小,表面原子比例大,比表面積大,表面能大,處于能量不穩(wěn)定狀態(tài),因而細(xì)微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團(tuán)聚,形成團(tuán)聚狀的二次顆粒,乃至三次顆粒,使粒子粒徑變大,在每個(gè)顆粒內(nèi)部有細(xì)小孔隙。

       

      納米顆粒的團(tuán)聚一般分為兩種:軟團(tuán)聚和硬團(tuán)聚。對于軟團(tuán)聚機(jī)理,人們的看法比較*,即,軟團(tuán)聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致,由于作用力較弱,可以通過一些化學(xué)作用或施加機(jī)械能的方式來消除。

        

      光觸媒研磨分散機(jī)SGN高剪切研磨分散機(jī)是納米物料分散設(shè)備中*,在多個(gè)領(lǐng)域的納米分散中都有著突出的應(yīng)用。如:納米*、納米二氧化硅、石墨烯、碳納米管、納米樹脂、納米涂料等!

      上海SGN應(yīng)對納米級物料的分散,研發(fā)出新型設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,納米級漿料進(jìn)入研磨分散后,*行研磨將團(tuán)聚體打開,然后再經(jīng)過分散工作組,進(jìn)行分散,避免再次團(tuán)聚。
             

      SGN研磨分散機(jī)是高剪切膠體磨+高剪切分散機(jī)的設(shè)備,將兩者一體化,解決了時(shí)間差的問題,因?yàn)槲锪蠄F(tuán)聚是一個(gè)瞬間的過程,研磨后立即分散,效果好,效率高。

       

      GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。

       

      SGN化工研磨分散設(shè)備選型表:

      研磨分散機(jī)

      流量*

      輸出

      線速度

      功率

      入口/出口連接

      類型

      l/h

      rpm

      m/s

      kW

       

      GMSD 2000/4

      300

      14,000

      44

      4

      DN25/DN15

      GMSD 2000/5

      1000

      10,500

      44

      11

      DN40/DN32

      GMSD 2000/10

      3000

      7,300

      44

      22

      DN80/DN65

      GMSD 2000/20

      8000

      4,900

      44

      37

      DN80/DN65

      GMSD 2000/30

      20000

      2,850

      44

      55

      DN150/DN125

      GMSD2000/50

      60000

      2,000

      44

      110

      DN200/DN150

      *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

                 
      ,納米光觸媒分散機(jī),光觸媒分散機(jī),納米*分散機(jī),光觸媒超細(xì)分散機(jī),納米分散機(jī)



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