快速定量陰極熒光 CL-SEM系統(tǒng)

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產(chǎn)品分類 品牌分類

  表、界面分析測(cè)試儀器

納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)
  環(huán)境檢測(cè)儀器

離子檢測(cè)儀

拉曼檢測(cè)儀

爆炸品檢測(cè)儀

痕量毛發(fā)檢測(cè)儀
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  薄膜沉積與表征儀器

脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD）
  半導(dǎo)體行業(yè)儀器

原子層沉積系統(tǒng)

陰極熒光檢測(cè)設(shè)備

磁場(chǎng)成像顯微鏡系統(tǒng)
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石英晶體微天平
  真空泄露測(cè)試儀

  其他品牌

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

快速定量陰極熒光 CL-SEM系統(tǒng)Allalin：該儀器是一種納米分辨率光譜儀器，基于一種被稱為定量陰極熒光的突破性技術(shù)，它將光學(xué)顯微鏡和掃描電子顯微鏡集成到一個(gè)系統(tǒng)中。它允許“不折不扣"的大視場(chǎng)/快速掃描同時(shí)獲得掃描電鏡成像與高光譜或全色CL圖。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Allalin是一種納米分辨率光譜儀器，基于一種被稱為定量陰極熒光的突破性技術(shù)，它將光學(xué)顯微鏡和掃描電子顯微鏡（SEM）集成到一個(gè)系統(tǒng)中。Allalin允許“不折不扣"的大視場(chǎng)/快速掃描同時(shí)獲得掃描電鏡成像與高光譜或全色CL圖。該系統(tǒng)的構(gòu)建是為了在不犧牲掃描電鏡（SEM）性能的前提下獲得最\佳的陰極熒光性能：光學(xué)顯微鏡和掃描電鏡的物鏡被周密的整合在一起，使它們的焦平面相互匹配；光學(xué)顯微鏡以亞微米精度加工，與傳統(tǒng)的CL技術(shù)相比，具有高數(shù)值孔徑（N.A.0.71）的消色差、高數(shù)值孔徑（N.A.0.71）檢測(cè)，在大視場(chǎng)（高達(dá)300μm）下具有*的光子收集效率。因此，定量陰極熒光，其中與儀器相關(guān)的工件可以從本質(zhì)上排除作為光譜特征或?qū)Ρ榷鹊脑?，這使陰極熒光首\次變的可信。

Allalin是為那些需要遵循嚴(yán)格的技術(shù)路徑和快速獲取非常精確的光譜信息而設(shè)計(jì)的，而這些信息是傳統(tǒng)方法無法企及的。在半導(dǎo)體故障分析、開發(fā)和研究中，Allalin的光譜測(cè)量能力為快速可靠的缺陷檢測(cè)和定位提供了無\與\倫\比的解決方案。經(jīng)過驗(yàn)證的數(shù)據(jù)類型包括位錯(cuò)密度、材料成分波動(dòng)、應(yīng)變、摻雜劑類型和濃度的測(cè)量；以及其他廣泛的應(yīng)用。在科學(xué)研究中，Allalin能夠創(chuàng)建納米分辨率的光譜圖，這使得它成為深入了解納米尺度材料物理特性的終\極工具。 Allalin擁有一套全面的功能選項(xiàng)：覆蓋紫外-紅外波長范圍的各種探測(cè)器選擇、SE檢測(cè) 器、穩(wěn)定的低溫樣品臺(tái)和高靈敏度的EBIC（電子束感應(yīng)電流）檢測(cè)解決方案。

技術(shù)參數(shù)

電子光學(xué)系統(tǒng)	– 肖特基熱場(chǎng)發(fā)射電子槍 – 電子束能量 1keV–10keV – 最小電子束斑尺寸: 3nm @10kV – 最\佳工作距離 3mm – 高靈敏度SE檢測(cè)器 – 可升級(jí)為皮秒脈沖激光電子槍（更多信息請(qǐng) 參閱Chronos信息） – 探針電流: 30pA to 300nA
光學(xué)系統(tǒng)	– 視場(chǎng)可達(dá) 300µm – 集成光收集系統(tǒng): 由朗伯體發(fā)射的光子有30%離開顯微鏡(在整個(gè)視場(chǎng)中是恒定的) – 消色差反射物鏡從180nm 到 1.6µm– 數(shù)值孔徑: NA 0.71 (f/0.5)
光檢測(cè)	– 色散光譜儀，帶有兩個(gè)成像出口(320毫米焦距)和一個(gè)3光柵轉(zhuǎn)臺(tái)(Attolight提供大量衍射光柵，以匹配您的應(yīng)用)，電動(dòng)入口和出口狹縫用于紫外可見光(200 nm–1100 nm)測(cè)的高速CCD攝像機(jī)，最\高速度>900光譜/秒 – 用于近紅外(600 nm–1700 nm)檢測(cè)的InGaAs攝像機(jī)最\高速度>180光譜/秒 – 使用不同的探測(cè)器在200 nm–1700 nm范圍內(nèi)進(jìn)行全色檢測(cè)，最\高速度>每像素50 ns
電子束感應(yīng)電流(EBIC)	– 低噪音EBIC電路板 – 電流測(cè)量極限100fA – 增益10^4到10^15V/A – 帶寬最\大 100kHz
樣品室與真空系統(tǒng)	– 無油真空泵組系統(tǒng)：用于電子槍和電子柱的吸氣劑離子泵和用于樣品室的渦輪分子泵 – 一般換樣時(shí)間：20 min – 真空門上配有電子饋通
納米定位平臺(tái)	– 6自由度，可任意移動(dòng)(與低溫恒溫器兼容） – 行程: 25mm (X,Y), 3mm (Z), 3° 傾斜(X,Y), 10° 旋轉(zhuǎn) (Z) – 步進(jìn): 1 nm – 整個(gè)行程范圍內(nèi)100 nm的重復(fù)性 – 坐標(biāo)系統(tǒng)，便于精確定位和移動(dòng)
低溫恒溫系統(tǒng)	– 溫度范圍從 10K 到室溫，溫度精度0.1 K – *的數(shù)字溫度控制器 – 溫度為10 K時(shí)，每小時(shí)漂移小于300nm
系統(tǒng)控制和檢測(cè)模塊	– 同時(shí)進(jìn)行CL（高光譜或全光譜圖譜）、SEM和EBIC檢測(cè) – 半自動(dòng)操作模式 – 直觀的基于觸摸屏的圖形用戶界面（GUI），用于快速樣品定位和移動(dòng)以及實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)顯示，以檢查測(cè)量狀態(tài) – 最\大圖像分辨率為4K，高光譜圖譜的最\大分辨率為512×512像素，電子束停留時(shí)間最小為每像素50 ns
數(shù)據(jù)分析	– Attolight提供了強(qiáng)大的分析和解決方案。更多信息請(qǐng)參考單獨(dú)的Attomap手冊(cè)。 – 工具配置和CL數(shù)據(jù)同時(shí)保存，以便于工具配置的再現(xiàn) – 通過網(wǎng)絡(luò)輕松訪問受密碼保護(hù)的測(cè)量數(shù)據(jù) – 導(dǎo)出為開放數(shù)據(jù)格式，為用戶選擇首\選的數(shù)據(jù)分析軟件提供最\大的靈活性
系統(tǒng)外形規(guī)格	– 占地面積：1219 mm（長）× 1039 mm（寬） – 推薦使用面積：2017 mm（長）× 2426 mm（寬） – 重量：~1110 kg

應(yīng)用示例

1、納米半導(dǎo)體光學(xué)特性

2、晶體缺陷檢測(cè)和定位（螺型位錯(cuò)、堆垛缺陷、摻雜物等）

3、納米級(jí)成分波動(dòng)的測(cè)定

4、摻雜計(jì)量

5、失效分析

6、納米光子學(xué)

關(guān)鍵詞：探測(cè)器攝像機(jī) 控制器顯微鏡光譜儀

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