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      上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司

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      GMSD2000/4鋰電池納米*研磨分散機(jī)
      參考價(jià): 面議
      具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • GMSD2000/4 產(chǎn)品型號(hào)
      • 品牌
      • 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
      • 上海市 所在地

      訪問次數(shù):162更新時(shí)間:2019-05-22 08:44:16

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      產(chǎn)品簡(jiǎn)介
      SGN鋰電池納米*研磨分散機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)自動(dòng)控制,且操作簡(jiǎn)單方便,機(jī)器運(yùn)行很穩(wěn)定。機(jī)器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。
      產(chǎn)品介紹

      鋰電池納米*研磨分散機(jī),納米*研磨分散機(jī),高剪切研磨分散機(jī),*高速研磨分散機(jī),納米*德國(guó)研磨分散機(jī),納米*SGN研磨分散機(jī),144000轉(zhuǎn)納米*研磨分散機(jī)

      SGN鋰電池納米*研磨分散機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)自動(dòng)控制,且操作簡(jiǎn)單方便,機(jī)器運(yùn)行很穩(wěn)定。機(jī)器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

      銳鈦礦納米*比表面積大,在光催化,太陽能電池,環(huán)境凈化,催化劑載體,鋰電池以及氣體傳感器等方面得到廣泛的應(yīng)用。

      納米*具有良好的快速充放電性能和較高的容量。經(jīng)循環(huán)伏安研究表明,鋰離子在納米*中同時(shí)存在兩種動(dòng)力學(xué)過程,即擴(kuò)散控制的鋰離子嵌入-脫出國(guó)產(chǎn)和贗電容性的動(dòng)力學(xué)過程,更好地釋放鋰嵌入和脫嵌過程中的應(yīng)力,提高循環(huán)壽命,這也是與納米*的特殊結(jié)構(gòu)相關(guān)的。由于納米*)具有很好的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性,因此具有更廣泛的應(yīng)用范圍。

      納米*是一種優(yōu)秀的鋰嵌入載體,插鋰電位在1.5-1.6V,形成Li0.91TiO2-B,具有優(yōu)異的可逆循環(huán)容量。有意思的是,它的比容量要優(yōu)于同種相的直徑跟納米線直徑相仿的納米粒子。

       

      技術(shù)及價(jià)格請(qǐng)來電:葛   公司有樣機(jī)可供客戶購(gòu)前實(shí)驗(yàn),
      歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!

       

      主要技術(shù)指標(biāo):

      項(xiàng)目

      指標(biāo)

      型號(hào)

      DC-TiO2-003

      納米*外觀

      白色粉末

      PH 值

      6-8

      水份%(105,2hr干燥失重)

      ≤1.0

      平均原級(jí)粒徑,nm

      20

      含量,%

      ≥99.9

      比表面積   m2/g 

      50-200

      表面處理劑

      鋰電池活化劑處理

      應(yīng)用特點(diǎn):

      (1)可以有效的參雜到鈷酸鋰,錳酸鋰,磷酸鐵鋰,三元材料里面,添加量一般在0.2-0.4%。

      (2)由于所使用的染料敏化劑可以在很低的光能量下達(dá)到飽和。

      (3)光的利用效率高,對(duì)光線的入射角度不敏感。

      (4)對(duì)光陰影不敏感。

      (5)可在很寬溫度范圍內(nèi)正常工作。

      (6)具有很高的光轉(zhuǎn)化率

       

      納米*電池的優(yōu)點(diǎn)在于它廉價(jià)的成本和簡(jiǎn)單的工藝及穩(wěn)定的性能。其光電效率穩(wěn)定在10%以上,制作成本僅為硅太陽電池的1/5~1/10.壽命能達(dá)到20年以上。

       

      研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

      *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

      第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

      GMD2000為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

       

      研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

      1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

      2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

      3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

      4 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

      5 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

      設(shè)備其它參數(shù):

      設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
      電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
      電源選擇 380V/50HZ220V/60HZ、440V/50HZ
      電機(jī)選配件 PTC 熱保護(hù)、降噪型
      研磨分散機(jī)材質(zhì)SUS304 SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
      研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
      研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
      進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
      研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

       

      從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

      1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

      2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

      3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

      4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

      5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

       

      線速度的計(jì)算:

      剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

      剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                     g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

      由上可知,剪切速率取決于以下因素:

      轉(zhuǎn)子的線速率

      在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
      SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

      速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

       所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

       

      GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
       

      型號(hào)

      流量

      L/H

      轉(zhuǎn)速

      rpm

      線速度

      m/s

      功率

      kw

      入/出口連接

      DN

      GMD2000/4

      300

      9000

      23

      2.2

      DN25/DN15

      GMD2000/5

      1000

      6000

      23

      7.5

      DN40/DN32

      GMD2000/10

      2000

      4200

      23

      22

      DN80/DN65

      GMD2000/20

      5000

      2850

      23

      37

      DN80/DN65

      GMD2000/30

      8000

      1420

      23

      55

      DN150/DN125

      GMD2000/50

      15000

      1100

      23

      110

      DN200/DN150

       

      流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

       



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