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      上海思峻機械設(shè)備有限公司

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      GMD2000/4高分子研磨分散機
      參考價: 面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
      • GMD2000/4 產(chǎn)品型號
      • 品牌
      • 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
      • 上海 所在地

      訪問次數(shù):91更新時間:2019-02-21 20:22:59

      聯(lián)系我們時請說明是智能制造網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
      產(chǎn)品簡介
      高分子研磨分散機可以處理量大,運轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料*通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。
      產(chǎn)品介紹

      高分子研磨分散機可以處理量大,運轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料*通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

       

      高分子研磨分散機結(jié)構(gòu):是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

      *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

      第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

       

      GMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

      特點:

      1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

      2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

      3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

      4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

      5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

      設(shè)備其它參數(shù):

      設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
      電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
      電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
      電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
      研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
      研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
      研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
      進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
      研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

       

      從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

      1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

      2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

      3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

      4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

      5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

      詢價和技術(shù)問題請來電:李 )   公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)。

      線速度的計算:

      剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

      剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                     g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

      由上可知,剪切速率取決于以下因素:

      轉(zhuǎn)子的線速率

      在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
      SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

      速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

       所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

      設(shè)備選型表

      型號

      流量

      L/H

      轉(zhuǎn)速

      rpm

      線速度

      m/s

      功率

      kw

      入/出口連接

      DN

      GMD2000/4

      300

      9000

      23

      2.2

      DN25/DN15

      GMD2000/5

      1000

      6000

      23

      7.5

      DN40/DN32

      GMD2000/10

      2000

      4200

      23

      22

      DN80/DN65

      GMD2000/20

      5000

      2850

      23

      37

      DN80/DN65

      GMD2000/30

      8000

      1420

      23

      55

      DN150/DN125

      GMD2000/50

      15000

      1100

      23

      110

      DN200/DN150

       



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