我公司主要生產(chǎn)：砂磨機(jī),臥式砂磨機(jī),納米超細(xì)砂磨機(jī),盤式砂磨機(jī),棒銷式砂磨機(jī),陶瓷渦輪砂磨機(jī),立式砂磨機(jī),實(shí)驗(yàn)砂磨機(jī),高速分散機(jī),實(shí)驗(yàn)室分散機(jī),三輥研磨機(jī),球磨機(jī),UV光固機(jī),不銹鋼拉缸等化工成套設(shè)備及化工設(shè)備配件。

東莞億富機(jī)械專注于濕法分散、研磨技術(shù)開(kāi)發(fā)、設(shè)備制造及整體解決方案與實(shí)現(xiàn)的科技型企業(yè)，我司專業(yè)生產(chǎn)：臥式砂磨機(jī)、納米顆粒球磨機(jī)、納米顆粒砂磨機(jī)、納米顆粒研磨機(jī)、納米顆粒分散機(jī)等化

工機(jī)械設(shè)備。
       納米顆粒砂磨機(jī)廣泛應(yīng)用于電池材料、電子漿料、數(shù)碼耗材、陶瓷材料、非金屬礦粉體、顏料、稀土材料、化妝品、醫(yī)藥制劑、高檔油墨涂料等行業(yè)。所生產(chǎn)的超微粉顆粒粉徑可達(dá)50納米以下，

具有顆粒穩(wěn)定、粒徑分布窄等特點(diǎn)。
       納米顆粒砂磨機(jī)具有特點(diǎn)如下：
1、  使用全陶瓷結(jié)構(gòu)及高質(zhì)量的材料（釔穩(wěn)定氧化鋯、碳化硅）保證了無(wú)金屬污染和更長(zhǎng)的壽命。
2、  的渦輪式分散器確保了研磨珠的高能量，均勻運(yùn)動(dòng)，保證了高效。
3、  高效的能量轉(zhuǎn)換有效降低了能耗。
4、  的片式分離篩圈結(jié)構(gòu)及其特殊的不堵塞設(shè)計(jì)，可使用0.1-1mm的研磨珠，分離可靠性高，安裝方便，維護(hù)簡(jiǎn)單。
5、  通道式和循環(huán)式生產(chǎn)工藝，連續(xù)不斷的高效能實(shí)現(xiàn)了粒徑分布zui窄。
6、  理想的冷卻效果保證了對(duì)溫度敏感的物料的順利研磨。
7、  優(yōu)化的設(shè)計(jì)更加方便操作。
8、  智能化操作系統(tǒng)更加科學(xué)記錄運(yùn)行參數(shù)和確保生產(chǎn)的順利實(shí)施。
為了配合不同行業(yè)及企業(yè)的不同需求，我司配套生產(chǎn)各型號(hào)分散機(jī)、液壓三輥機(jī)、砂磨機(jī)、球磨機(jī)、乳化機(jī)、反應(yīng)釜、拉缸等化工設(shè)備及化工周邊輔助設(shè)備，從實(shí)驗(yàn)室型到中式、量產(chǎn)設(shè)備，品種齊全，

同時(shí)可根據(jù)客戶生產(chǎn)工藝需求提供一體化的解決方案及完善周到的服務(wù)。

本設(shè)備研磨腔所有配置單元——研磨缸，分散盤，襯套，壓蓋，前后蓋封板，出料篩圈等全部為釔穩(wěn)定氧化鋯（YZr）組成，高耐磨，無(wú)污染。研磨盤有*的線速度，（zui高達(dá)到25米每秒），配置極小的研磨微珠（zui小可以為0.2mm），高效的研磨系數(shù)，使得產(chǎn)品達(dá)納米的細(xì)度（zui高達(dá)50納米）。采用篩圈的分離作用，使物料和介質(zhì)在研磨筒的尾端產(chǎn)生分離，后出料。

本設(shè)備為濕法分散、研磨工藝設(shè)備，尤其在超微粉材料的制造及應(yīng)用上效果甚優(yōu)。可為以下行業(yè)提供濕法分散、研磨工藝解決方案
1）印刷油墨
2）噴墨打印油墨
3）電子漿料
4）涂料和清漆
5）化妝品
6）顏料
7）制藥
8）造紙材料（重質(zhì)碳酸鈣濕法加工）
9）光纖材料
10）陶瓷材料（氧化鋁、氧化鋯、氧化硅等）
 
11）金屬涂膏（導(dǎo)電性材料），包括:絕緣涂膏、用于電容器生產(chǎn)的涂膏、印制電路板（PCB）
 
以及使用于要求環(huán)保的各類納米材料的超細(xì)粉碎研磨公益項(xiàng)目上。
設(shè)備特點(diǎn)
1）無(wú)污染：本設(shè)備研磨腔所有配置單元——研磨缸、分散盤、襯套、壓蓋、前后蓋封板、出料篩圈等全部為釔穩(wěn)定氧化鋯（YZr）或者碳化硅（Sisic）組成，可根據(jù)客戶的需求選用不同材料的配置，高

耐磨、無(wú)污染，特別是無(wú)金屬污染。
 
2）高效：采用特殊結(jié)構(gòu)的研磨分散器結(jié)構(gòu)，配置極小的研磨微珠（zui   小可以為0.1mm），高效的研磨系數(shù)，使得產(chǎn)品達(dá)納米的細(xì)度（zui高達(dá)50納米）。
 
3）顆粒分布范圍窄：特殊的研磨原理以及出料結(jié)構(gòu)，可保證物料顆粒分布均勻，D50顆粒在90%以上。
 
4）損耗?。翰捎萌忾]結(jié)構(gòu)以及高效的冷卻系統(tǒng)，在研磨溶劑介質(zhì)物料時(shí)損耗非常小。

  技術(shù)參數(shù)：