超高速蒙脫土三級均質(zhì)機

【蒙脫土簡介】

蒙脫土是一類由納米厚度的表面帶負電的硅酸鹽片層，依靠層間的靜電作用而堆積在一起構(gòu)成的土狀礦物，其晶體結(jié)構(gòu)中的晶胞是由兩層硅氧四面體中間夾一層鋁氧八面體構(gòu)成。具有*的一維層狀納米結(jié)構(gòu)和陽離子交換性特性，從而賦予蒙脫土諸多改性的可能和應用領域的擴大。經(jīng)改性的蒙脫土具有很強的吸附能力，良好的分散性能，可以廣泛應用高分子材料行業(yè)作為納米聚合物高分子材料的添加劑，提高抗沖擊、抗疲勞、尺寸穩(wěn)定性及氣體。

【蒙脫土用途】

蒙脫土（包括鈣基、鈉基、鈉-鈣基、鎂基蒙脫土）經(jīng)剝片分散、提純改型、超細分級、特殊有機復合，平均晶片厚度小于25nm，被稱為“*材料”。蒙脫土的應用領域非常廣泛，特別是通過無機和有機改性使其富有了許多*的性能，應用領域更進一步擴大，廣泛用于有毒物的吸附劑、催化劑、涂層劑，尤其是聚合物-層狀納米復合材料，使聚合物力學性能、阻燃性能、熱穩(wěn)定性能的提高，應用前景廣闊。

【蒙脫土均質(zhì)機簡介】

蒙脫土均質(zhì)機，超高速蒙脫土三級均質(zhì)機，蒙脫土三級管線式均質(zhì)機，采用德國*的定轉(zhuǎn)子技術以及皮帶傳動技術，將德國*的膠體磨技術與德國*的超高速分散機技術合二為一，設備即兼顧了高速研磨剪切，又具體了超高速分散、乳化、均質(zhì)等功能。轉(zhuǎn)速zui高可達14000rpm，線速度zui高可以44m/s。設備擁有很強的研磨分散能力。

CDL2000超高速蒙脫土三級均質(zhì)機的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CIK采用的德國*的三級定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)，由上至下分別為粗齒、中齒、細齒（或者超細齒），也就是我們通常所說的2P、2G、4M、6F、8SF，五組定轉(zhuǎn)子可根據(jù)具體要求進行選配，而對于生氣柴油乳化，我們一般選配2G、4M、8SF三組定轉(zhuǎn)子作為一個組合，再配上CIK分散乳化機超高的線速度44m/s（高剪切分散乳化機影響物料分散乳化效果的是設備的剪切速率，而設備的剪切速率又是由線速度與定轉(zhuǎn)子間隙決定的，當定轉(zhuǎn)子間隙一定的時候，線速度越大，剪切速率越高，剪切效果就越好。設備的線速度又是由設備轉(zhuǎn)速和定轉(zhuǎn)子直徑來決定的，當定轉(zhuǎn)子直徑一定的時候，設備轉(zhuǎn)速越高，線速度就越高，剪切效果就越好），CIK三級剪切分散機轉(zhuǎn)速范圍在0-14000rpm之間，可根據(jù)客戶具體要求進行調(diào)節(jié)。CIK為保證設備從中試型到生產(chǎn)型能做到線性放大，所以同一系列的設備線速度都是*的（44m/s）。

CDL2000均質(zhì)機的優(yōu)點

· 設計簡單且強勁，使用壽命長

· 改良的分散性能。使用皮帶傳動，速度調(diào)節(jié)簡易

· 可提供制藥級設計

· 根據(jù)ATEX 95指導方針執(zhí)行防爆

· 根據(jù)符合EHEDG（歐洲衛(wèi)生工程設計集團）準則制造

· 符合3A衛(wèi)生標準和認證

· 容易擴大規(guī)模處理

· 耐磨高性能機械密封

· 高質(zhì)量表面處理

· 設備可自動排水且具有CIP 清洗和 SIP滅菌功能

· 物料接觸部分部分為316L或316Ti不銹鋼

· 可耐高達16 bar的壓力

· 根據(jù)需要定制特殊材質(zhì)和表面處理

· 低噪音水平

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