國產(chǎn)光刻機(jī)取得重大進(jìn)展氟化氬光刻機(jī)套刻≤8nm

2024-09-18 09:41:42來源：TechWeb.com.cn 關(guān)鍵詞：國產(chǎn)光刻機(jī)氟化氪光刻機(jī)閱讀量：24372

導(dǎo)讀：從工業(yè)和信息化部在公布的《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》來看，國產(chǎn)光刻機(jī)已取得重大突破，氟化氬光刻機(jī)套刻≤8nm。

　　9月15日消息，從工業(yè)和信息化部在公布的《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》來看，國產(chǎn)光刻機(jī)已取得重大突破，氟化氬光刻機(jī)套刻≤8nm。

　　在《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》中，也公布了氟化氬光刻機(jī)其他的核心技術(shù)指標(biāo)，晶圓直徑300mm，照明波長193nm，分辨率≤65nm。

　　此外，《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》中還有氟化氪光刻機(jī)，晶圓直徑300mm，照明波長248nm，分辨率≤110nm，套刻≤25nm。

　　除了光刻機(jī)，工信部在印發(fā)的《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》中，還有多類集成電路生產(chǎn)裝備，包括硅外延爐、濕法清洗機(jī)、氧化爐、涂膠顯影機(jī)、高能離子注入機(jī)、低能離子注入機(jī)、等離子干法刻蝕機(jī)、特種金屬膜層刻蝕機(jī)、化學(xué)氣相沉積裝備、物理氣相沉積裝備、化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)、激光退火裝備、光學(xué)線寬量測裝備。

　　光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等芯片生產(chǎn)關(guān)鍵設(shè)備取得突破，也就意味著我國芯片制造商在關(guān)鍵設(shè)備上有了更先進(jìn)的國產(chǎn)設(shè)備可用，有利于芯片產(chǎn)業(yè)鏈的國產(chǎn)化，也將提升國產(chǎn)芯片的水平，保障供應(yīng)。

　　工信部在公布的《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》，包括15大類重大技術(shù)裝備，除了長期困擾我國芯片產(chǎn)業(yè)的光刻機(jī)，還有高端工業(yè)母機(jī)、高端醫(yī)療裝備、精密儀器儀表等。(海藍(lán))

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國產(chǎn)光刻機(jī)65nm節(jié)點有望突破！5~10年內(nèi)研發(fā)重點在哪？
目前國產(chǎn)化率不足3%，核心原因主要在于零組件供應(yīng)與整機(jī)技術(shù)與海外差距較大。不過，近期也傳出技術(shù)突破的好消息！
國產(chǎn)光刻機(jī)氟化氪光刻機(jī)氟化氬光刻機(jī)
2024-10-10 17:17:59

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