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      《光學(xué)陀螺測(cè)角儀校準(zhǔn)規(guī)范》等5項(xiàng)國(guó)家計(jì)量技術(shù)規(guī)范征求意見(jiàn)

      2023-11-11 18:23:57來(lái)源:儀表網(wǎng) 關(guān)鍵詞:測(cè)角儀測(cè)量?jī)x閱讀量:21492

      導(dǎo)讀:全國(guó)幾何量長(zhǎng)度計(jì)量技術(shù)委員會(huì)已完成《晶圓級(jí)薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)規(guī)范》《晶圓級(jí)臺(tái)階高度凹槽深度標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)規(guī)范》《干涉式三維表面形貌測(cè)量?jī)x校準(zhǔn)規(guī)范》《光學(xué)陀螺測(cè)角儀校準(zhǔn)規(guī)范》和《散目標(biāo)式視覺(jué)測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)規(guī)范》5項(xiàng)計(jì)量技術(shù)規(guī)范的征求意見(jiàn)稿。
        根據(jù)國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局下達(dá)的國(guó)家計(jì)量技術(shù)規(guī)范制修訂計(jì)劃,全國(guó)幾何量長(zhǎng)度計(jì)量技術(shù)委員會(huì)已完成《晶圓級(jí)薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)規(guī)范》《晶圓級(jí)臺(tái)階高度凹槽深度標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)規(guī)范》《干涉式三維表面形貌測(cè)量?jī)x校準(zhǔn)規(guī)范》《光學(xué)陀螺測(cè)角儀校準(zhǔn)規(guī)范》和《散目標(biāo)式視覺(jué)測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)規(guī)范》5項(xiàng)計(jì)量技術(shù)規(guī)范的征求意見(jiàn)稿。為了使國(guó)家計(jì)量技術(shù)規(guī)范能廣泛適用和更具可操作性,特向全國(guó)有關(guān)單位及專(zhuān)家公開(kāi)征求意見(jiàn)和建議。
       
        《晶圓級(jí)薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)規(guī)范》
       
        晶圓級(jí)薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片指以硅晶圓片為基底,采用化學(xué)氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)以及原子層沉積(ALD)等方法生長(zhǎng)出微納米量級(jí)的單層二氧化硅薄膜,主要被測(cè)參數(shù)為薄膜厚度,晶圓級(jí)薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片是集成電路產(chǎn)線質(zhì)控的必要器件。
       
        本規(guī)范為首次制定。本規(guī)范適用于晶圓級(jí)薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片的校準(zhǔn),薄膜材料為硅上二氧化硅,校準(zhǔn)方法為激光橢偏儀,同時(shí)其他材料的晶圓級(jí)薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)片的校準(zhǔn)也可以參照本規(guī)范。
       
        《晶圓級(jí)臺(tái)階高度/凹槽深度標(biāo)準(zhǔn)片校準(zhǔn)規(guī)范》
       
        晶圓級(jí)臺(tái)階高度/凹槽深度標(biāo)準(zhǔn)片是用來(lái)校準(zhǔn)微電子集成電路領(lǐng)域微納表面形貌測(cè)量?jī)x的標(biāo)準(zhǔn)器。其基底為硅晶片,通過(guò)對(duì)其表面氧化膜刻蝕得到臺(tái)階結(jié)構(gòu),可適應(yīng)于接觸或非接觸式的各類(lèi)表面形貌顯微測(cè)量裝置。特征結(jié)構(gòu)位于標(biāo)準(zhǔn)片的中心,可通過(guò)輔助圖形幫助快速定位。
       
        本規(guī)范為首次制定。本規(guī)范適用晶圓級(jí)標(biāo)準(zhǔn)片的校準(zhǔn)。包括晶圓級(jí)臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)片、晶圓級(jí)凹槽深度標(biāo)準(zhǔn)片的首次校準(zhǔn)、后續(xù)校準(zhǔn)和使用中檢查。
       
        《干涉式三維表面形貌測(cè)量?jī)x校準(zhǔn)規(guī)范》
       
        干涉式三維表面形貌測(cè)量?jī)x基于雙光束干涉的原理,經(jīng)樣品表面反射回的參考光與測(cè)量光形成干涉條紋,并經(jīng)由CCD采集,經(jīng)過(guò)算法重構(gòu)獲得表面形貌,在垂直方向上可以達(dá)到亞納米級(jí)的分辨力。
       
        本規(guī)范為首次制定。本規(guī)范適用于干涉式三維表面形貌測(cè)量?jī)x的校準(zhǔn),其它基于干涉原理的顯微鏡校準(zhǔn)也可參照本規(guī)范。
       
        《光學(xué)陀螺測(cè)角儀校準(zhǔn)規(guī)范》
       
        光學(xué)陀螺測(cè)角儀是基于薩格納克效應(yīng)(Sagnac Effect)發(fā)展出來(lái)的一種角度測(cè)量?jī)x器,陀螺本體,光路內(nèi)藏于殼內(nèi),卡盤(pán)下表面與陀螺敏感面平行,通過(guò)卡盤(pán)安裝在載體工作面上;數(shù)據(jù)采集模塊,通過(guò)無(wú)線或有線通訊與陀螺本體互聯(lián),可在外部觸發(fā)或內(nèi)部觸發(fā)下實(shí)時(shí)采集角度測(cè)量結(jié)果,測(cè)量結(jié)果可傳輸至上位機(jī)顯示或分析。
       
        本校準(zhǔn)規(guī)范為首次發(fā)布。本規(guī)范適用于環(huán)形激光陀螺測(cè)角儀和光纖陀螺測(cè)角儀的角位置相關(guān)計(jì)量性能的校準(zhǔn)。
       
        《散目標(biāo)式視覺(jué)測(cè)量?jī)x校準(zhǔn)規(guī)范》
       
        散目標(biāo)式視覺(jué)測(cè)量?jī)x是以散斑為目標(biāo)點(diǎn),利用數(shù)字相機(jī)獲取散斑的數(shù)字圖像,經(jīng)數(shù)字圖像相關(guān)法運(yùn)算,獲得被測(cè)對(duì)象表面坐標(biāo)的測(cè)量?jī)x器,常用于零件表面變形/應(yīng)變的測(cè)量,也稱為全場(chǎng)變形/應(yīng)變測(cè)量系統(tǒng),具有非接觸測(cè)量、全場(chǎng)測(cè)量、動(dòng)態(tài)測(cè)量等特性。
       
        本規(guī)范為首次發(fā)布。本規(guī)范適用于以散斑點(diǎn)為特征點(diǎn)、以數(shù)字圖像相關(guān)法為基本原理的視覺(jué)測(cè)量?jī)x的校準(zhǔn)。
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