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FUJIFILM Recording Media美國公司近日宣布了FUJIFILM LTO Ultrium 9數(shù)據(jù)盒(LTO-9)上市。LTO-9符合第九代LTO Ultrium磁帶存儲介質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)，這是標(biāo)志著大量數(shù)據(jù)的備份和歸檔的新性能標(biāo)準(zhǔn)。FUJIFILM的LTO-9采用專有技術(shù)，提供高達(dá)45TB的存儲容量(非壓縮數(shù)據(jù)為18TB)，比上一代LTO磁帶增加了50%。
磁帶被越來越多的人認(rèn)為是一種理想的存儲介質(zhì)，可以安全、低成本地對大批量數(shù)據(jù)進(jìn)行長期存檔。此外，磁帶對環(huán)境的影響也很低，因為在數(shù)據(jù)存儲過程中不需要持續(xù)通電，因此與硬盤驅(qū)動器(HDD)相比，在其生命周期內(nèi)產(chǎn)生的二氧化碳排放量減少了95%。
FUJIFILM Recording Media美國公司總裁Hironobu Taketomi說：“FUJIFILM LTO Ultrium 9將滿足世界上對數(shù)據(jù)存儲、網(wǎng)絡(luò)安全和減少氣候影響日益增長的需求。這一代更高的容量和更快的磁帶存儲介質(zhì)代表了向降低成本、降低能耗和二氧化碳排放以及利用磁帶固有的安全優(yōu)勢邁出的重要一步”。
近年來，隨著5G網(wǎng)絡(luò)、高清視頻、物聯(lián)網(wǎng)(IoT)、人工智能(AI)等的引入，全球產(chǎn)生的數(shù)據(jù)量成倍增長。據(jù)估計，多達(dá)80%的數(shù)據(jù)是“冷”的，也就是很少訪問的數(shù)據(jù)，可以有效和更經(jīng)濟(jì)地轉(zhuǎn)移到磁帶存儲層，它提供了所有存儲介質(zhì)中低的總擁有成本(TCO)。
FUJIFILM的新LTO-9利用鋇鐵氧體(BaFe)磁性顆粒實(shí)現(xiàn)了其更大的存儲容量，這些顆粒用 FUJIFILM前沿的“NANOCUBIC技術(shù)”配制成細(xì)小的顆粒，均勻地分布在磁帶表面，形成一個光滑而薄的磁層。LTO-9還提供了高速數(shù)據(jù)傳輸傳輸速度高達(dá)1000MB/s，壓縮數(shù)據(jù)傳輸速度為400MB/s，比 LTO-8增加了25%。
磁帶可以脫機(jī)和脫網(wǎng)存儲，創(chuàng)造一個物理的“air gap”保護(hù)，將數(shù)據(jù)暴露于網(wǎng)絡(luò)攻擊的風(fēng)險降到較低。長期存儲高容量數(shù)據(jù)的安全性，使磁帶長期以來成為主要數(shù)據(jù)中心和研究機(jī)構(gòu)的首選。
(原標(biāo)題：FUJIFILM推出LTO-9數(shù)據(jù)盒 最高容量45TB 傳輸1000MB/s)
浙公網(wǎng)安備 33010602000006號
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