上海新陽半導(dǎo)體收到ASML-1400光刻機將用于研發(fā)193nm ArF光刻膠

2021-03-09 16:42:31來源：TechWeb 關(guān)鍵詞：半導(dǎo)體光刻機閱讀量：21942

導(dǎo)讀：經(jīng)各方積極協(xié)商、運作，ASML-1400光刻機設(shè)備于今日已進(jìn)入合作方北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司場地，后續(xù)將進(jìn)行安裝調(diào)試等相關(guān)工作。

　　3月9日消息，近日上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司發(fā)布公告，披露了關(guān)于購買ASML-1400光刻機的新進(jìn)展。

　　上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司(以下簡稱“公司”)自立項開發(fā)193nm ArF干法光刻膠的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目以來，安排購買了ASML-1400光刻機等核心設(shè)備，并于2020年12月14日在《關(guān)于公司申請向特定對象發(fā)行股票的審核問詢函的回復(fù)》中披露，該光刻機將于2020年底前運抵國內(nèi)。后由于公司與光刻機供應(yīng)商、北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司(以下簡稱“合作方”)溝通協(xié)調(diào)設(shè)備運輸與安裝等細(xì)節(jié)，致使設(shè)備沒能在規(guī)定時間內(nèi)運達(dá)，但與合作方就具體合作細(xì)節(jié)簽署了《合作框架協(xié)議》，并發(fā)布了《關(guān)于ASML-1400光刻機進(jìn)展暨簽訂<合作框架協(xié)議>的公告》，預(yù)計該光刻機將于2021年3月底前進(jìn)入合作方現(xiàn)場，詳見公司于2021年1月5日發(fā)布的相關(guān)公告。

　　現(xiàn)經(jīng)各方積極協(xié)商、運作，該光刻機設(shè)備于今日已進(jìn)入合作方北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司場地，后續(xù)將進(jìn)行安裝調(diào)試等相關(guān)工作。

　　(原標(biāo)題：上海新陽半導(dǎo)體收到ASML-1400光刻機將用于研發(fā)193nm ArF光刻膠)

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