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      表面改性plasma表面處理設備

      參考價面議
      具體成交價以合同協(xié)議為準
      • 公司名稱昆山國華電子科技有限公司
      • 品       牌
      • 型       號
      • 所  在  地蘇州市
      • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
      • 更新時間2019/5/9 15:41:10
      • 訪問次數(shù)318
      產(chǎn)品標簽:

      除膠清洗

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      昆山國華電子科技有限公司是一家等離子技術研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和推廣于一體的高科技公司,主要生產(chǎn)超低溫等離子,表面清洗機,等離子設備,在線式自動化等離子等等。“秉承服務創(chuàng)造價值,技術成就未來”的宗旨,為客戶提供表面處理領域的整體解決方案。

      清洗機用途:氣體通入,不同組合用于不同工藝制造,可用于高頻板PTFE類、軟硬結(jié)合板、多層軟板等除膠渣等制造工藝,柔性板化金前后清洗、打線邦定前清洗等處理,SMT前清洗等。
      對外提供代以下加工服務:柔性板、軟硬結(jié)合板、高厚徑比硬板鉆孔后、沉銅前孔壁蝕刻,孔壁除膠渣。等等等
       我司有多位從事等離子行業(yè)的專家和學者多名,目前國內(nèi)外的等離子設備都在幫客戶做售后和維護。
       當然我司遠遠不止這一臺設備,還有更多的款式。選擇我們沒有錯!

      等離子清洗機
      等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運動狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
      在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體,通過等離子體
      表面改性plasma表面處理設備 產(chǎn)品信息

      昆山等離子清洗機代工商

      等離子清洗機清洗原理:

      等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運動狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
      在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面.以達到清洗目的.
      等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的活化作用達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面

       

      一、概述:

      等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性

      二、詳細說明:

      等離子清洗機清洗原理:

      等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運動狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
      在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面.以達到清洗目的.
      等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的活化作用達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面

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