成套電子束光刻系統(tǒng) 德國(guó) 型號(hào):JKY/Raith150-two

庫(kù)號(hào)：M319546

儀器介紹　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　[下載樣本] 納米技術(shù)研究和開(kāi)發(fā)需要通用和靈活的儀器設(shè)備，的性能、多用戶(hù)管理能力、以及儀器的可靠和易用性是對(duì)這類(lèi)設(shè)備的關(guān)鍵要求。自動(dòng)化對(duì)于小批量生產(chǎn)來(lái)說(shuō)則是須的。成套電子束光刻系統(tǒng) 德國(guó) 型號(hào):JKY/Raith150-two

* Raith150-two是納米技術(shù)研究中心理想的電子束光刻（電了束曝光、電子束直寫(xiě)）工具。
* e-LiNE是一個(gè)靈活的電子束光刻（曝光、直寫(xiě)）和納米加工平臺(tái)，并集成了一些殊的可以滿(mǎn)足不同學(xué)科要求的功能。
* ionLiNE是一個(gè)新奇的離子束光刻和加工設(shè)備。作為真正的納米結(jié)構(gòu)書(shū)寫(xiě)器，可以在廣闊的領(lǐng)域得到令人振奮的應(yīng)用。
* Pioneer 高分辨經(jīng)濟(jì)型電子束光刻設(shè)備

Raith150-two是可以應(yīng)用于晶片級(jí)電子曝光同時(shí)擁有*分辨率的電子束光刻設(shè)備。并是納米技術(shù)研究中心理想的電子束直寫(xiě)工具。并可設(shè)定為自動(dòng)光刻流程并具有mix&match曝光功能。
Raith150-two應(yīng)用在半導(dǎo)體工業(yè)的新器件生產(chǎn)和新流程工藝中。作為專(zhuān)業(yè)的光刻系統(tǒng)，Raith150-two包括了所有例如高度感應(yīng)和晶片高度測(cè)量等相應(yīng)功能。強(qiáng)大的晶片自動(dòng)化曝光管理功能可以使所有要的校準(zhǔn)和曝光方案互相配合

e_LiNE 是一款適合大學(xué)和其他學(xué)術(shù)研究機(jī)構(gòu)的有著*分辨率的電子束光刻系統(tǒng)和納米加工平臺(tái)。
可選的如納米操縱探針、EBID（電子束誘導(dǎo)沉積）、EBIE（電子束誘導(dǎo)刻蝕）等擴(kuò)展功能使得e_LiNE成為多功能的納米加工平臺(tái)。的電子透鏡系統(tǒng)極其適合一些關(guān)鍵性的應(yīng)用，例如CNT （碳納米管）的研究、薄膜工程、光子晶體和EBID（電子束誘導(dǎo)沉積）。 型號(hào):JKY/Raith150-two

ionLiNE是為在表面科學(xué)、薄膜工程和應(yīng)用物理研究等低劑量應(yīng)用設(shè)計(jì)的集離子束光刻、納米制造和納米工程為一體的新奇的納米工作平臺(tái)。
按照精確的納米光刻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，代表了新一代研究和開(kāi)發(fā)儀器水平。
ionLiNE作為的離子束光刻、制備和加工設(shè)備，為研究工作者獲得激動(dòng)人心的結(jié)果提供了極其難得的機(jī)會(huì)。擁有自主的NanoFIB TM光學(xué)系統(tǒng)提供了和自動(dòng)圖形制作所需的隔夜束流穩(wěn)定性。低的束斑拖尾保證了高的性。集成的激光干涉控制的樣品臺(tái)，可為大面積的加工應(yīng)用提供便利。

Pioneer 同樣是一款高分辨的電子束曝光機(jī), 用于操作2英寸及以下的樣品。2nm分辨率的激光干涉工件臺(tái)，大大滿(mǎn)足了高精度拼接及套刻的要求。完善的掃描電鏡功能方便了曝光后的成像觀察及尺寸度量。

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