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CS2350M雙恒電位儀內(nèi)置兩套恒電位/恒電流儀，每套恒電位儀各有一套輔助、工作和參比電極輸出，并由CS Studio測試軟件來協(xié)調(diào)輸出電位/電流，CS2350M是真正意義上的雙通道電化學(xué)工作站。
具體應(yīng)用于：
1. 雙通道獨(dú)立使用，可同時(shí)進(jìn)行兩組常規(guī)電化學(xué)測試；
2.雙通道組合使用，可用于電化學(xué)分析四電極工作體系，尤其在氧還原（ORR）中間產(chǎn)物收集、金屬氫擴(kuò)散測試有廣泛應(yīng)用。
技術(shù)優(yōu)勢
CS2350M雙恒電位儀不僅具有CS單通道系列高精度、寬量程以及強(qiáng)大的數(shù)據(jù)分析處理功能，而且在原有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上創(chuàng)新突破。 CS2350M雙通道硬件設(shè)計(jì)可以實(shí)現(xiàn)兩組實(shí)驗(yàn)體系的測試要求，同時(shí)，軟件的組合編程功能大大提高了實(shí)驗(yàn)的效率。
典型案例：
1. 雙通道獨(dú)立測試
使用專用的電池測試夾，配合軟件的組合編程功能，給電池能源領(lǐng)域的用戶帶來更高效、更智能的測試體驗(yàn)。
圖1.雙通道獨(dú)立測量參數(shù)設(shè)置界面
2.配合旋轉(zhuǎn)環(huán)盤電極（RRDE）用于研究氧化還原體系：
在測量圓盤電極極化曲線的同時(shí)，將環(huán)電壓設(shè)置為恒電位，控制圓環(huán)電極在固定的極化電勢，用以檢測圓盤電極上產(chǎn)生的反應(yīng)中間物，該方法也成為檢測反應(yīng)中間物和研究電極反應(yīng)機(jī)理的典型流體動(dòng)力學(xué)方法。氧還原反應(yīng)的電子轉(zhuǎn)移數(shù)和相應(yīng)的雙氧水（中間產(chǎn)物）產(chǎn)率可分別通過公式測得：
其中知Idisk和Iring分別為測得的盤電流、環(huán)電流，電極收集效率N 由盤環(huán)電極參數(shù)決定（常數(shù)）。將測試結(jié)果代入以上公式即求得實(shí)際反應(yīng)的電子轉(zhuǎn)移數(shù)n 和H2O2（%）所占比例。
圖2.氧還原（ORR）中間產(chǎn)物檢測
3. 金屬中氫擴(kuò)散測試：
兩個(gè)恒電位裝置配合Devnathan-Stachurski 雙電解池，通過左側(cè)電解池的陰極充氫和右側(cè)電解的氫原子陽極氧化電流測量，進(jìn)而計(jì)算氫原子在金屬中擴(kuò)散系數(shù)和氫通量。
圖3.金屬中氫擴(kuò)散控制
硬件參數(shù)指標(biāo)
| 雙恒電位儀： 單恒電位電位控制范圍：±10V，雙恒電位儀電位控制范圍:±10V | 恒電流控制范圍：±1A |
| 電位控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV | 電流控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù) |
| 電位靈敏度：10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz) | 電流靈敏度：1pA |
| 電位上升時(shí)間：＜1μs(<10mA),＜10μs(<2A) | 電流量程：2A～2nA, 共10檔 |
| 參比電極輸入阻抗：1012Ω||20pF | 輸出電流：1A |
| 槽壓輸出：±21V | 電流掃描增量：1mA @1A/mS |
| CV和LSV掃描速度：0.001mV～10,000V/s | 電位掃描電位增量：0.076mV @1V/mS |
| CA和CC脈沖寬度：0.0001～65,000s | DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s |
| SWV頻率：0.001～100KHz | CV的最小電位增量：0.075mV |
| AD數(shù)據(jù)采集：16bit@1MHz，20bit @1kHz | 電流與電位量程：自動(dòng)設(shè)置 |
| DA分辨率：16bit，建立時(shí)間：1μS | 低通濾波器 ：8段可編程 |
| 通訊接口：網(wǎng)口 | 儀器凈重：7.5Kg |
| 外形尺寸（cm）：36.5(W)X30.5 (D)X16 (H) |
電化學(xué)阻抗測量指標(biāo)
| 信號發(fā)生器 | |
| 頻率響應(yīng)：10μHz～1MHz | 交流信號幅值：1mV～2500mV |
| 頻率精確度：0.005% | 信號分辨率：0.1mV RMS |
| DDS輸出阻抗：50Ω | 直流偏壓：-10V～+10V |
| 正弦波失真率：<1% | 波形：正弦波，三角波，方波 |
| 掃描方式：對數(shù)/線性，增加/下降 | |
| 信號分析器 | |
| 積分時(shí)間：106個(gè)循環(huán)或者105S | 測量時(shí)間延遲：0～105秒 |
| 最小積分時(shí)間：10mS 或者一個(gè)循環(huán)的最長時(shí)間 | |
| 直流偏置補(bǔ)償 | |
| 電位補(bǔ)償范圍：-10V～+10V | 電流補(bǔ)償范圍：-1A～+1A |
| 帶寬調(diào)整：自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置, 共8級可調(diào) | |
配置
1）儀器主機(jī)1臺
2）CS Studio測試與分析軟件1套
3）模擬電解池1個(gè)
4）電源線、網(wǎng)線各1條
5）電極電纜線2條
6）電腦（選配*）
開路電位測量（OCP）、恒電位極化（i-t曲線）、恒電流極化、動(dòng)電位掃描（TAFEL曲線）、動(dòng)電流掃描（DGP）
暫態(tài)極化
任意恒電位階梯波、任意恒電流階梯波、恒電位階躍（VSTEP）、恒電流階躍（ISTEP）
計(jì)時(shí)分析
計(jì)時(shí)電位法（CP）、計(jì)時(shí)電流法（CA）、計(jì)時(shí)電量法（CC）
伏安分析
線性掃描伏安法（LSV）、線性循環(huán)伏安法（CV）、階梯循環(huán)伏安法（SCV）、方波伏安法（SWV）、差分脈沖伏安法（DPV）、常規(guī)脈沖伏安法（NPV）、常規(guī)差分脈沖伏安法（DNPV）、差分脈沖電流檢測法（DPA）、雙差分脈沖電流檢測法（DDPA）、三脈沖電流檢測法（TPA）、積分脈沖電流檢測法（IPAD）、交流伏安法（ACV）、二次諧波交流伏安（SHACV）、傅立葉變換交流伏安（FTACV）
溶出伏安
恒電位溶出伏安、線性溶出伏安、階梯溶出伏安、方波溶出伏安、差分脈沖溶出伏安、常規(guī)脈沖溶出伏安、常規(guī)差分脈沖溶出伏安、交流溶出伏安
交流阻抗
頻率掃描-電位控制模式（EIS-V） 、 頻率掃描-電流控制模式（EIS-I） 、 電位掃描（IMPE,Mott-Schotty) 、 時(shí)間掃描-電位控制模式、 時(shí)間掃描-電流控制模式
腐蝕測量
循環(huán)極化曲線（CPP）、線性極化曲線（LPR）、動(dòng)電位再活化法（EPR)、電化學(xué)噪聲（EN）、電偶腐蝕測量（ZRA）、氫擴(kuò)散測試
電池測試
電池充放電測試、恒電流充放電、恒電位充放電、恒電位間歇滴定技術(shù)（PITT）、恒電流間歇滴定技術(shù)（GITT）
雙恒測量
氫擴(kuò)散測試（HDT）、盤環(huán)電極測試（RRDE）、法拉第效率測試（FET）
擴(kuò)展測量
盤環(huán)電極測試、數(shù)字記錄儀、波形發(fā)生器、圓盤電機(jī)控制、其它外設(shè)擴(kuò)展端口（定制）
