JZ-5500熒光光譜儀/熒光光譜裝置 JZ-5500 型X射線衍射/全反射熒光光譜儀,是國(guó)內(nèi)將衍射和熒光集成在一體的新型全自動(dòng)分析儀器,其具體實(shí)現(xiàn)功能如下:
1:X射線衍射功能(XRD);
2:X射線全反射熒光功能(TXRF);
3:小角XRD功能(SAXRD),或X射線反射(XRR)
掃描角度0-5度。 TF-5500 型技術(shù)參數(shù)如下: | | |
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JZ-5500型X射線熒光光譜儀技術(shù)指標(biāo)及性能特點(diǎn) X射線熒光光譜儀可分析樣品:包括液體、薄膜、顆粒、生物體液、組織標(biāo)本、顏料、墨水、油漆、半導(dǎo)體材料等。 | 配 置 名 稱 | 主要技術(shù)指標(biāo) | 特 點(diǎn) | X射線發(fā)生器(進(jìn)口PLC控制技術(shù)) | 電源電壓(單相) | 交流220V±10% | 采用進(jìn)口PLC(可編程控制器)的控制技術(shù),自動(dòng)化程度高、故障率極低、抗力強(qiáng)、系統(tǒng)穩(wěn)定性好、可延長(zhǎng)整機(jī)使用壽命。PLC與計(jì)算機(jī)接口自動(dòng)控制光閘的開關(guān),自動(dòng)控制管壓、管流的升降,具有自動(dòng)訓(xùn)練X光管的功能。 | 額定功率 | 5KW | 管電壓 | 10~60kV1kV /Step | 管電流 | 2~80mA,1mA /Step | 穩(wěn)定度 | ≤0.01% | 高壓電纜 | 介電電壓100kV,長(zhǎng)度2米。 | 測(cè)角儀 | 測(cè)樣形式 | TD-5500(立式結(jié)構(gòu)) | 樣品水平:θS-θd立式測(cè)角儀 | 衍射圓半徑 | 185mm(θS-θd可調(diào)到285mm) | | 2θ角掃描范圍 | -35~170°, | 掃描速度 | 0.006~96°/min | 2θ角重復(fù)精度 | ≤0.0005° | 最小步進(jìn)角度 | 0.0001° | 測(cè)量準(zhǔn)確度 | ≤0.001° | 回轉(zhuǎn)速度 | 1000°/min | 記錄控制 單 元 | 計(jì)數(shù)器 | Si漂移計(jì)數(shù)器SDD | | 計(jì)數(shù)線性范圍 | ≥700,000cps | 背景噪聲 | ≤1cps | 探測(cè)器高壓穩(wěn)定度 | 優(yōu)于±0.005% | 能譜分辨率 | Si漂移計(jì)數(shù)器:≤12% | 循環(huán)制冷 系 統(tǒng) | 結(jié)構(gòu) | 分體式或一體式 | 采用帶制冷功能的循環(huán)水裝置。該裝置自動(dòng)控制水溫并顯示X光管溫度,溫度范圍可自動(dòng)選擇。自帶制冷系統(tǒng),無需外接循環(huán)水冷卻裝置,并且采用不銹鋼水泵,使噪音降低并且消除了水銹的產(chǎn)生,避免X射線管的堵塞。 | 工作溫度 | 0-50°C | 工作電壓 | 220V | 保護(hù)功能 | 1、水流量壓力檢測(cè); 2、制冷劑壓力檢測(cè); 3、溫度過高和過低等各種保護(hù)。 | 微 機(jī) 系 統(tǒng) | 主機(jī) | 雙核CPU RAM2G硬盤280G | | 顯示器 | 19″液晶顯示器 | 打印機(jī) | 激光打印機(jī) | 保護(hù)功能 | 報(bào)警裝置 | 有KV過高、kv過低、mA過高、mA 過低、無水、X光管超溫、整機(jī)過流保護(hù)、X光管功率保護(hù)等功能。 | | 安全裝置 | 防護(hù)系統(tǒng)為雙重防護(hù),光閘窗口與鉛門聯(lián)動(dòng),鉛門打開光閘自動(dòng)關(guān)閉 | | X射線泄漏 | 按《GBZ115-2002 X射線衍射儀和熒光分析儀衛(wèi)生防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)》進(jìn)行檢測(cè),輻射安全許可證號(hào):遼環(huán)輻證[00150]防護(hù)罩外射線計(jì)量≤0.2μSv/h。 | 采用高密度、高透明的鉛玻璃做 防護(hù)。 | X射線管 (Cu靶) | 功率 | 2.4kW | | 焦點(diǎn) | 1×10mm | 靶材 | Cu靶一只 | | |
JZ-5500 型X射線衍射/全反射熒光光譜儀 JZ-5500 型X射線衍射/全反射熒光光譜儀 (JZ-5500型XRD-TXRF聯(lián)合譜儀) 一.儀器介紹:JZ-5000 型X射線衍射/全反射熒光光譜儀是我公司研制的新一代多功能分析儀器,它既可以進(jìn)行X射線衍射,又可以進(jìn)行全反射熒光光譜分析,可分析樣品多:包括液體、薄膜、顆粒、生物體液、組織標(biāo)本、顏料、墨水、油漆、半導(dǎo)體材料等。 二.可分析元素:原子序數(shù)11-92.,即Na-U。 三.儀器特點(diǎn): 1, 無基體效應(yīng),抑制來自襯底的信號(hào),特別適合薄膜樣品、粉末樣品好、液態(tài)樣品的分析測(cè)試。 2, 定量分析較普通XRF簡(jiǎn)單 3, 多元素超痕量分析,ppb-ppm數(shù)量級(jí),ppt或pg),從鈉到钚 4, 動(dòng)態(tài)范圍從百萬分之一到百分之一 5, 樣品不需預(yù)處理 6, 無記憶效應(yīng) 7, 非破壞性分析 8, 無需液氮冷卻,運(yùn)行成本低 9, 一機(jī)多用,既可分析樣品的晶體結(jié)構(gòu),又可以分析樣品的成分與雜質(zhì)含量,還可以進(jìn)行小角XRD衍射,大大降低設(shè)備成本。 10, 可進(jìn)行普通XRF(45度入射)分析。