性能指標(biāo)

1. 電鏡分辨率：高真空模式：0.7 nm @ 15 kV, 1.4 nm @ 1 kV,1.7 nm@500 V；
2. 減速模式：1.0 nm @ 1 kV-SE,1.2 nm@200 V-SE;
3. 景深模式：2 nm@30 kV；
4. 低真空模式：3 nm @ 30kV-SE, 2 nm @ 30 kV-BSE；
5. 放大倍數(shù)@30 kV：4ｘ-1,000,000ｘ；
6. 加速電壓：200 V～30 kV，連續(xù)可調(diào)；
7. 束流大?。?pA～400nA。
8. 物鏡模式（TriLensTM三物鏡系統(tǒng)）：超高分辨模式、分析模式、景深模式、大視野模式、無交叉模式
9. 探測(cè)器：SE探測(cè)器（TriSETM）：In-Chamber SE（樣品室）、In-Beam SE（極靴內(nèi)）、SE（BDM）;
10. BSE探測(cè)器（TriBETM）：In-Chamber BSE、Mid-Angle BSE、In-Beam BSE。
11. 低真空二次電子檢測(cè) 器(LVSTD)；樣品室紅外CCD探測(cè)器。
12. WITec共聚焦拉曼顯微鏡：532 nm（75 mW）和785 nm（125 mW）激發(fā)波長(zhǎng)；
13. 刻線光柵：配置300, 600, 1200 lines/mm@500 nm，全自動(dòng)切換；
14. 光譜分辨率：優(yōu)于1.5cm-1；
15. 光學(xué)物鏡：WD=4.0 mm，100x，NA=0.75；
16. 掃描范圍：250μm*250μm*250μm。
17. 共聚焦分辨率：2 μm（532 nm）；
18. 圖像空間分辨率XY方向：360nm（532nm）；
19. 光譜范圍：95-4000cm-1（532nm）； 

主要應(yīng)用

1. 該設(shè)備集成了掃描電子顯微鏡與WITec共聚焦拉曼成像的兩個(gè)系統(tǒng)，兩者分別具有亞納米和衍射限制的200-300 nm分辨率。
2. 可提供獨(dú)立SEM和共焦拉曼顯微鏡的所有功能和特性，并且能夠?qū)呙桦A段的樣品自動(dòng)轉(zhuǎn)移至光學(xué)顯微鏡處進(jìn)行原位表征，最終可獲取拉曼和SEM的疊加圖像。
3. 可應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體、光電、太陽能電池、光刻膠、生命科學(xué)等領(lǐng)域。 

樣品要求

1. 樣品高度小于50 mm，直徑小于30mm;
2. 固體干燥樣品，不接受磁性樣品或易磁化樣品；
3. 拉曼測(cè)試樣品要盡可能平整。

儀器說明

1. WITec共聚焦拉曼光譜顯微鏡——更高的共焦拉曼成像速度、靈敏度和分辨率；優(yōu)秀的深度分辨率適合三維圖像生成和深度分析；非破壞性成像技術(shù)：樣品無需染色固定；
2. 肖特基場(chǎng)發(fā)射高分辨掃描電鏡——TriglavTM電子鏡筒、TriLensTM物鏡和探測(cè)系統(tǒng)，擁有的信噪比，能夠獲取各種納米材料的表面細(xì)節(jié)、出色的形貌和成分襯度；尤其是低電壓或電子減速模式下對(duì)電子束高敏感的材料或不導(dǎo)電材料的成像（低k系數(shù)介電材料、光刻膠、不導(dǎo)電材料、原始狀態(tài)的生物材料）。